25年来重大更新！尼康推出5倍缩小的i-line步进式光刻机NSR-2205iL1

来源:芯智讯发布时间:2023-09-01471浏览

8月31日消息，尼康公司通过官网发布公告称，将推出型号为“NSR-2205iL1”的5倍缩小的 i-line 步进式光刻机，该产品将用于制造电力和通信半导体以及 MEMS 等各种器件。与现有的尼康 i-line曝光系统相比，NSR-2205iL1 具有出色的经济性，无论晶圆材料如何，都可以优化各种半导体器件的生产。预计将于2024 年夏季上市销售。

尼康表示，NSR-2205iL1 代表了尼康5倍步进技术在过去二十五年中的最重大的更新，将可直接响应客户对这些在芯片制造中发挥重要作用的光刻系统的需求。

随着电动汽车、高速通信和各种 IT 设备变得越来越普遍，对支持它们的半导体的需求呈指数级增长。这些半导体必须执行各种具有挑战性的功能，因此，设备制造商需要专门的基板和曝光系统来制造这些芯片。尼康此前经常通过翻新以前拥有的步进机等方式来满足这些光刻系统要求。然而，翻新步进器的供应可能有限，可能不足以满足客户的需求。因此，为了提供额外的灵活曝光设备解决方案，尼康推出了新型 5x i-line 步进式光刻机NSR-2205iL1 ，利用与客户密切合作获得的知识，为他们提供专门的解决方案，以满足市场需求并解决步进式光刻机供应有限和老化的问题。除了扩展各种选项以满足客户的多样化需求外，这款新开发的 i-line 步进式光刻机还将支持长期的设备生产。

从官方公布的参数来看，NSR-2205iL1 曝光光源是 i-line（365nm波长），分辨率≤350nm，NA为 0.45，最大曝光场22 mm x 22 mm。

主要优点

1、提供卓越的经济承受能力，同时支持各种需求

NSR-2205iL1 将提供高生产率，同时通过使用多点自动对焦 (AF) 的高精度晶圆测量、先进的晶圆平台调平（通过倾斜放置晶圆的工作台来校正曝光期间曝光图像平面和基板表面之间的偏移的机构）和宽 DOF（扩展的焦深范围）来优化各种半导体制造工艺的良率水平。此外，由于其晶圆厚度和尺寸兼容性、高晶圆翘曲容限以及灵活的功能（包括但不限于支持碳化硅和氮化镓加工），它非常适合各种应用。NSR-2205iL1 i-line 步进机将提供卓越的经济性，同时满足芯片制造商的多样化要求。

2、与现有产品和晶圆厂运营兼容

NSR-2205iL1 可以与现有晶圆厂运营兼容，在晶圆厂中拥有尼康 i-line 曝光系统的客户可以继续利用现有的资产和运营，例如光掩模和晶圆曝光解决方案。此外，NSR-2205iL1 还可以补充或替换不再满足制造要求的现有步进式光刻机。

3、专为长期使用和可持续性而设计

NSR-2205iL1 可以放心地长期使用，因为其设计采用通用商用组件，比以往更容易采购零件，并为未来提供更可持续的光刻解决方案。

编辑：芯智讯-林子

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