重磅！中微缠讼美厂屡险胜

国内半导体设备厂中微11日宣布，与科林研发（Lam Research）涉及离子蚀刻设备的相关技术与商业秘密侵犯案，在上海取得终审判决胜诉。

这也是历年来中微与美系大厂交手的第三回合，再次取得胜利，也显示未来国内半导体设备业者，在设备本土化供应链中取得专利技术优势。

细数过去中微与国际设备大厂的交手经验，几回合下来可说战绩丰硕。2017年有机金属化学气相沉积法（MOCVD）大厂威科仪器（Veeco）向中微发起专利诉讼，随后2018年初，国内海关以涉嫌侵犯中微专利为由，扣押Veeco Asia进口的MOCVD设备。

此事被视为，国内海关替中微争战中增添关键谈判筹码。2018年2月Veeco与中微火速就专利诉讼达成和解。

在此之前，中微较为外界熟知的国际厂商交手案，就是与创始人前东家应用材料（Applied Materials）的官司。中微创始人尹志尧曾任职美商公司，2004回国内创业成立中微，但就在起步不久，2007年10月，应用材料对中微发起诉讼，主张包括尹志尧等多名员工都是应材前雇员等。

当时，此一官司对中微可说面临存亡危机，因为与国际大厂的专利侵权索赔往往金额大、耗时长，对创立不久的中微来说，随时可能产生致命一击。

不过，尹志尧有所准备，多年来透过不断研究与过滤专利，与应用材料多年官司缠斗下来，双方于2010年达成和解，和解协议中，双方同意专利家族共同拥有。中微在此回合中惊险以和解收场。

接着又是尹志尧「老东家」之一的科林研发找上门。2009年科林在台湾对中微发起诉讼，但中微经过多次与大厂的交手累积经验，2010年12月反向上海市第一中级人民法院，就科林研发侵犯电浆蚀刻设备商业秘密案提起一审诉讼，并于2017年3月赢得一审诉讼。

随后，该案件被上诉至上海市高级人民法院，再经6年缠讼，2023年上海市高级人民法院二审做出中微的胜诉判决。外界分析，除对方的赔偿外，中微经过多年鏖战，在此战役中取得险胜，也等于扫除对手当初试图阻挠进入台湾市场的产权障碍。

中微Primo nanova蚀刻机已经涵盖14纳米、7纳米、5纳米的蚀刻应用，也是台积电7纳米产线蚀刻设备5家供应商之一。蚀刻机技术难度较高，科林研发、东京威力科创（TEL）和应用材料3家供应商占据主导地位，合计占全球90%以上的市场。

但近年来中微制程蚀刻均匀性、稳定性和可靠性愈来愈高，且具有成本优势，在电浆蚀刻设备市占率快速成长，2022年第3季电浆蚀刻设备累计出货已突破2,000台。

分析指出，从中微的屡战险胜经验，未来国内设备业者将更懂得善用本地优势，取得专利先机，善用本地筹码进一步化被动为主动，成为更多国内本土设备厂家「上位」的范例。

来源：digitimes