起诉泛林，中微胜！
来源:半导体行业圈发布时间:2023-07-112898浏览
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在上海市高级人民法院2023年6月30日的终审判决中，法院命令泛林研发销毁其非法获取的与中微公司等离子刻蚀机有关的一份技术文件和两张照片。法院还禁止泛林研发及泛林研发的两名个人被告披露、使用或允许他人使用中微公司的专有的技术秘密。法院还命令泛林研发为其侵犯商业秘密向中微公司支付赔偿金和法律费用。
中微公司2010年12月向上海市第一中级人民法院就泛林研发侵犯公司商业秘密案提起一审诉讼，并于2017年3月赢得一审诉讼。随后，该案件被上诉至上海市高级人民法院。在上海市高级人民法院作出二审判决前，中微公司为保护与捍卫自身权益进行了长达6年的斗争，并取得终审胜利。
资料显示，2009年1月，泛林集团指控中微公司型号为 Primo D-RIE 的等离子蚀刻机侵害它的台湾 TW136706“电浆反应器中之多孔的电浆密封环”和 TW126873“于电浆处理室中大量消除未局限电浆之聚焦环配置 ”。并在在台湾发起了针对中微公司台湾分公司及其关联企业的侵权诉讼。
随后，中微公司以事实回应泛林的指控并指出泛林所提出的被侵权的根本就是无效的。2009年6月，泛林公司除了仅保留与 TW136706相关的部分侵权主張外，撤回了它其他大多数的侵权主張。台湾智慧财产法院法官在听取双方针对有效性问题辩论后，基于不需要更进一步的調查关于侵权的争议点，在2009年9月8日驳回了该案，并认定泛林集团主张遭到侵害的是无效的。
这个胜利对中微公司意义重大，并保证了中微公司能够持续在台湾市场布局和推广其技术的产品。
中微公司董事长兼首席执行官尹志尧博士表示：“中微公司极度重视自主创新和知识产权保护。我们在研发方面大量投入，致力于为我们的全球客户带来创新性的技术和解决方案。与此同时，我们全力保护我们的专有技术与知识产权，我们不容忍侵犯公司商业秘密或其他不光彩的行为。本次终审的胜诉判决，再次凸显了中微公司保护自身权益的决心，也展示了监管部门对国内外市场主体一视同仁的公正立场。”
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