美国泛林集团，侵犯国产刻蚀机商业秘密，被正式确认

众所周知，在半导体设备领域，我们是相当落后的，特别是光刻机，落后ASML应该有10年甚至落后更久。

也因为在半导体设备领域的落后，所以美国一直对中国半导体进行打压，利用的就是设备这一块，毕竟美国在半导体设备上，有着绝对的垄断权。

不过有一种产品，美国从不限制出口，那就是刻蚀机，哪所是3nm的刻蚀机，美国也不会禁令美国企业出口到中国来。

原因是中国有自己的刻蚀机，并且是全球最先进的，可以同步达到5nm、3nm水平，美国禁令美国的先进刻蚀机销量，那就是在给中国的刻蚀机让出市场，所以美国不禁刻蚀机。

而中国最先进的刻蚀机，是中微半导体生产出来的，创始人是尹志尧博士，于2004年创立。

尹博士在创立中微之前，在英特尔、泛林、应用材料等企业均工作过。

英特尔是芯片企业，而应用材料是全球最大的，最先进的刻蚀厂厂商，泛林也是全球最大的半导体设备厂商之一，所以尹博士在这些企业工作，积累了大量的经验，人脉，技术。

媒体报道称，尹志尧个人在半导体行业拥有86项美国专利和200多项各国专利，被誉为“硅谷最有成就的华人之一”。

他个人是功成名就了，但他看到中国在半导体设备领域落后，于是于2004年带着钱，带着一批精英人才回国（据称第一批是15个），创办了中微。

而在2007年，就研发出了第一代介质刻蚀机，并且全球首次采用可单台独立操作的双反应台，效率甚至比国外同类产品还要高30%。

这让美国企业坐不住了，生怕中微抢自己的饭碗，于是在2009年1月，泛林集团指控中微公司的等离子蚀刻机侵害它的权利，并在台湾发起诉讼。

没想到的是，台湾法院没让在他这一边，驳回了泛林的诉讼，并认定泛林集团主张遭到侵害的是无效的，粉碎了泛林的阴谋。

而后中微发现，泛林集团在参观中微时，非法获取了中微公司机密的技术文件，和机密的反应腔内部照片。

于是在2010年，中微向上海市第一中级人民法院提起诉讼，主张泛林集团侵犯中微公司的商业秘密，并在对簿公堂之后，双方你来我往6年多之后，于2017年3月赢得一审诉讼。

但泛林不服，继续上诉至上海市高级人民法院，然后又经历了6年时间，近日正式宣判，泛林集团确认侵犯中微商业秘密，中微公司获得二审胜诉。

可见，商业从来就是残酷的，不仅有技术上的竞争，还有各种阴谋诡计，幸好中微公司几次都打赢了官司，否则只怕市场都要被影响。

接下来，希望其它国产半导体设备，也像中微公司一样，达到5nm、3nm，那么芯片禁令也就不攻自破，再也卡不住了。

原文标题:美国泛林集团，侵犯国产刻蚀机商业秘密，被正式确认