ASML回应：没有面向中国市场推出特别版的光刻机
来源:电子工程世界发布时间:2023-07-071364浏览
询问 AI▲更多精彩内容请点击上方蓝字关注我们吧！日前有报道称，ASML将面向中国市场推出特别版DUV光刻机，不过此事已经辟谣，ASML表示，一直以来ASML都遵守所适用的法律条例，公司并没有面向中国市场推出特别版的光刻机。此前消息称，ASML推出的特别版DUV光刻机基于TwinscanNXT:1980Di光刻系统改造，而1980Di是10年前推出的旧型号，不在本次官方禁令范围内。1980Di是ASML现有效率比较低的光刻机，支持NA1.35光学器件、分辨率可以达到<38nm，理论上可以支持7nm工艺。大多数晶圆厂使用1980Di光刻机，主要生产14nm及以上工艺芯片，很少使用其生产7nm芯片。最近荷兰发布新规定，企业出口先进设备需要申请许可，9月1日后生效。ASML表示，根据新出口管制条例规定，该公司需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统（即TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统）。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证，并将向ASML提供许可证所附条件的细节。目前ASML在售的浸没式光刻机主要有三大型号：TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT:2000i 和TWINSCAN NXT:1980Di。
不过，目前NXT:1980Di 更多还是被用于45nm以下成熟制程的生产。资料也显示，2018年，长江存储和华力二期（华虹六厂）订购的NXT:1980Di 成功进厂安装，支持了两家晶圆厂的生产。ASML于2018年下半年正式出货的更为先进的浸润式光刻机NXT:2000i 通过多重曝光则可以支持到7nm及5nm制程工艺需求。2018年12月，ASML NXT2000i 首次进入中国，正式搬入SK海力士位于无锡的工厂。来源：快科技、芯智讯等网络内容综合
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ASML受出口管制的光刻机型号
根据ASML官网的介绍，TWINSCAN NXT:1980Di 的分辨率可以达到≤38nm，每小时可以生产275片晶圆。虽然其分辨率在38nm左右，但是通过多重曝光，依然可以支持到7nm左右。只不过，这样步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失。据说台积电的第一代7nm工艺也是基于 NXT:1980Di 实现的。不过，目前NXT:1980Di 更多还是被用于45nm以下成熟制程的生产。资料也显示，2018年，长江存储和华力二期（华虹六厂）订购的NXT:1980Di 成功进厂安装，支持了两家晶圆厂的生产。ASML于2018年下半年正式出货的更为先进的浸润式光刻机NXT:2000i 通过多重曝光则可以支持到7nm及5nm制程工艺需求。2018年12月，ASML NXT2000i 首次进入中国，正式搬入SK海力士位于无锡的工厂。来源：快科技、芯智讯等网络内容综合推荐阅读
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