ASML向中国推出“特供版”光刻机？

7月6日消息，据台媒报道，ASML试图规避荷兰新销售许可禁令，面向中国大陆市场推出特别版DUV 光刻机。

消息称如果该项目继续推进，中芯国际、华虹等半导体企业可以继续使用ASML的设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。

消息称该特别版 DUV 光刻机基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统改造，而 1980Di 是 10 年前推出的旧型号，不在本次官方禁令范围内。1980Di 是 ASML 现有效率比较低的光刻机，支持 NA 1.35 光学器件、分辨率可以达到 <38 nm，理论上可以支持 7nm 工艺。大多数晶圆厂使用 1980Di 光刻机，主要生产 14nm 及以上工艺芯片，很少使用其生产 7nm 芯片。

不过，ASML对此最新回应表示：一直以来ASML都遵守所适用的法律条例，我们并没有面向中国市场推出特别版的光刻机。

但行业人士表示，报道指出的特别版DUV光刻机是基于Twinscan NXT:1980Di光刻系统改造，作为10年前就已经推出的型号，因为技术已经严重退档，所以不在新的和旧有的禁令中。虽然这类光刻机理论上可以支持7nm芯片的制造，但因其生产效率极低，良品率太差，很少半导体公司在使用。