ASML：预计出口限制不会再有重大更新，有助降低规划不确定性

集微网消息，据海外社交平台爆料，在高盛上周举办的全球半导体年会（Global Semiconductor Conference）上，美光、ASML等公司分别回应了当前市场关心的热点问题。

ASML代表对话要点为：1、预计出口限制（即EUV）不会再有重大更新，这有助于降低规划的不确定性；2、今年DUV的需求继续超过供应量约20%；3、中国需求仍然强劲，同时大多数光刻机是被安装在洁净室并被操作（而不是仅仅被订购和储存起来）。

美光管理层则表示，中国最近的制裁对其总收入产生高个位数的影响，高于之前预计。技术方面，美光认为，与传统服务器相比，AI服务器可以嵌入8倍的DRAM和3倍的NAND。