扩大到45nm工艺？日本的半导体限制令，比美国还要狠

众所周知，前段时间有媒体报道称，美国联手日本、荷兰，对中国的半导体进行围堵。

后来日本在4月份，正式提出了半导体限制令，针对23种半导体设备进行了限制，涉及到3项清洗设备、11项薄膜沉积设备、1项热处理设备、4项光刻设备、3项刻蚀设备、1项测试设备。

当时说的是，最快这项政策可能会在7月份执行。而昨天这项法规正式通过了，在7月23日起正式执行。

被日本列入管制的这23个种类，不管对哪一个国家和地区，只要出口，都需要日本政府给的单独许可证才能出口，日本表示，这不是特意针对哪一个特定的国家和地区，所有国家都一样的。

但明眼人都清楚，这不可能针对美国吧，针对的当然是中国、俄罗斯等美国要打压的国家，因为日本是美国的小弟，听的就是美国的话。

并且日本的这个限售令，与ASML的光刻机不一样，ASML只针对先进工艺，其浸润式光刻机中，只有NXT:2000i及之后的浸没式光刻系统将会受到出口限制。

而像NXT:1980Di 这样的浸润式光刻机，还可以出口，它可以最高用于7nm芯片的光刻。同时美国针对中国的半导体产业，更多的还是只针对14nm以下的先进工艺。

但是日本的这23个种类的产品中，已经涉及到45nm工艺了，比ASML、美国的限售令，更为严格和范围广。

当然，日本也没说不能卖，只是说想从日本进口这些设备，需要单独的许可证，需要日本政府的审批才行，但能不能拿到许可证，还不是日本说了算？

这对于中国的半导体产业而言，将会是一个巨大的隐患，毕竟以往我们从日本进口的半导体设备，就牵涉到了这23项中的许多项，以后进口就没这么容易了，能不能买到，都是未知数了，可见半导体设备、半导体材料，我们都需要独立自主才行，依赖其它国家都不行。

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