投资最高5000亿日元！美光将向日本引入EUV光刻机

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来源：中财网、CMoney

美光 5月18 据报道，美光将在日本广岛的工厂安装荷兰ASML公司的先进芯片制造设备EUV光刻机，以制造下一代存储芯片。

据彭博社周四报道，美国存储芯片大厂美光科技将把EUV光刻技术引入日本，投资5000亿日元（约36亿美元）用于1-Gamma工艺技术。美光也将获得日本政府提供的约2000亿日元(15亿美元)的补贴。

报道援引知情人士称，美光将利用这笔补贴，在广岛工厂安装荷兰ASML公司的先进芯片制造设备EUV(极紫外光刻机)，以制造下一代存储芯片(DRAM)。这项资金计划可能会在日本首相岸田文雄周四会见包括美光首席执行官Sanjay Mehrotra在内的芯片高管代表团时宣布。

报道称，美光新引入最先进的光刻机并开始1-Gamma芯片的开发，也代表着日本在芯片尖端领域的最新一步。

除了研发DRAM的美光之外，日本政府已经花费数十亿美元鼓励台积电增加其在日本的芯片产能，并为日本本土芯片企业Rapidus提供资金，以实现在2027年生产2纳米芯片的梦想。

研究公司Omdia的分析师Akira Minamikawa表示，美光的广岛工厂将在G7半导体供应链计划雄心中发挥关键作用，它将成为这家美企发展的最重要地区之一。

自2013年以来，美光已经在日本投资超过130亿美元，其中包括去年宣布的1-beta存储芯片。而最新的投资将帮助美光在日本生产所谓的1-Gamma芯片，这是美光计划在2024年底推出的更先进技术。美光的供应商将因此受惠，包括东京威力科创(Tokyo Electron)和荷兰ASML。

美光预期会把自有资金投入广岛厂的拓展，但目前其尚未披露确切消息。广岛市政府预料也可能提供额外支持。

1-gamma 与上一代 1-beta 差在哪？

DRAM 厂彼此间的技术竞争仍在如火如荼进行，美光率先在 2022 年推出 1-beta 制程，随后 2023 年三星及 SK 海力士也跟进。美光更进一步领先竞争对手，有机会在 2024 年就推出 1-gamma 制程。

不管是 1-alpha、1-beta 还是目前最先进的 1-gamma 皆指制程节点，对应于存储器元件中活动区域阵列的半个截距面积，这些已进入 10 奈米 ( 10~19 nm ) 的世代。而 1-gamma 的半截距面积就会比 1-beta 小，推测是落在 10 ~ 12 nm 左右水平。

由于更小的晶体管切换更快，耗能更少，且凭着规模经济来降低制造成本，因此新一代制程在效能、功耗效率及制造成本方面都会较上一代改善。未来无论是资料中心、智慧汽车到工业边缘运算等领域，1-gamma 的优异性能将扮演美光重要成长驱动力。

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