消息称南大光电成功研发用于90-28nm生产的DUV ArF光刻胶

集微网消息，根据《电子时报》消息，业内人士透露南大光电已成功开发出可用于90-28nm芯片生产的DUV ArF光刻胶，该产品能够满足进口产品的替代需求，有利于国内芯片制造的自主可控。

目前用于半导体芯片生产的DUV ArF、KrF光刻胶，以及更先进的EUV光刻胶，主要由日本厂商主导，其中包括JSR、信越、住友、富士胶片，此外美国杜邦公司也有能力生产光刻胶。

消息人士表示，目前中国生产的光刻胶，90%都用于较成熟的芯片生产工艺，高端光刻胶严重依赖进口。但为了满足需求，包括南大光电、彤程新材、华懋科技在内的厂商，都在努力研发用于先进芯片工艺的光刻胶。

南大光电最近确认，在通过国内客户的验证之后，ArF光刻胶将正式出货给中国本土公司。集微网了解到，南大光电此前已引入国家集成电路产业投资基金，帮助其研发先进光刻胶，以服务更多中国客户，并帮助他们减少对日本、德国、美国进口产品的依赖。

（校对/张杰）