美光将向日本投资5000亿日元用于EUV芯片制造，2025年投产

集微网消息，根据路透社5月17日消息，美光宣布将向日本投资5000亿日元（约合254.8亿元人民币），用于在未来几年内在日本工厂引入EUV极紫外光刻机，生产DRAM芯片。

日本政府也对本国的半导体产业进行了一系列扶持，计划向美光提供2000亿日元的财政补助。集微网此前报道，美光在日本的工厂位于广岛，该公司将为日本引入首台ASML EUV极紫外光刻机，可以用于生产1-gamma先进制程芯片。此前美光已经于2022年在日本成功量产1-beta 制程DRAM芯片，预计全新的EUV光刻机将于2025年在日本投入生产，用于制造1-gamma DRAM存储芯片。

近年来，日本一直试图努力重振本国的芯片产业，其全球市场份额已从1980年的50%降低至如今的10%。美国作为日本盟友，如今也在努力帮助日本提振芯片制造产业。

（校对/张杰）