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来源:半导体前沿发布时间:2023-03-271339浏览
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第四届半导体湿电子化学品与电子气体论坛将于4月26日在杭州召开
湿法制程设备与技术论坛原定报告将并入湿电子化学品与气体论坛日程
据人民网3月26日报道,哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司(以下简称“科友半导体”)开发的高性能碳化硅长晶装备和高质量衬底产品实现规模化生产。自主研发的第三代半导体碳化硅产品不仅具有晶体生长周期短、良率高等优势,而且将衬底成本降低一半以上。
2018年,哈尔滨工业大学教授赵丽丽带领技术团队成立科友半导体,开展碳化硅高端装备设计及晶体材料研究。
据悉,在黑龙江省重大科技成果转化项目“碳化硅衬底产业化关键技术研究”等的支持下,科友半导体解决大尺寸碳化硅单晶制备易开裂、缺陷密度高、生长速率慢等技术难题,突破碳化硅衬底产业化系列关键技术,完成了6英寸设备研制、生产线搭建、单晶衬底材料制备等,并在此基础上进一步实现了8英寸碳化硅单晶衬底制备。
据报道,科友半导体建设的省重点项目第三代半导体产学研聚集区一期工程已投入生产;第三代半导体产学研聚集区二期工程将于近期开工建设,建成后将实现年产导电型碳化硅衬底15万片。
2020年7月3日,科友半导体产学研聚集区项目在哈尔滨新区江北一体发展区开工建设。科友半导体产学研聚集区由科友半导体和哈尔滨新区共同出资建设。哈尔滨新区发布当时消息显示,该项目一期计划投资10亿元,主要建设中俄第三代半导体研究院、中外联合技术创新中心、科友半导体衬底制备中心、科友半导体高端装备制造中心、国际孵化基地、科友半导体产品检验检测中心、人工宝石展览馆等项目。项目全部达产后,最终形成年产高导晶片近10万片,高纯半绝缘晶体1000公斤的产能;PVT-SIC晶体生长成套设备年产销200台套。
来源:集微网

晶圆制造是当今工业制造皇冠上的明珠,高纯度湿电子化学品是晶圆制造过程中清洗、光刻、蚀刻等工艺流程的必备材料,也应用于后端的封装测试环节。SEMI预计2022年中国半导体用湿电子化学品市场规模为4.28亿美元,同比增长14.13%。
电子气体是半导体制造、显示制造等产业的主要耗材之一,是中国战略性新兴产业发展中必不可少的关键支持材料。近年来中国本土气体企业如派瑞特气、华特气体、南大光电等的部分产品已经进入国内外先进晶圆厂中。SEMI预计2022年国内电子气体市场规模可达11.13亿美元,同比增长14.15%。
未来三年将是中国半导体制造产业高速发展期,中芯国际、华虹宏力、长江存储、长鑫存储等企业加速扩产,格科微、鼎泰匠芯、华润微等企业布局的多条8/12英寸晶圆生产线也将陆续投产,这将带动国内高于全球湿电子化学品与电子气体的需求增速。半导体电子化学品及气体将迎来空前发展机遇。
此外,清洗与抛光、湿法刻蚀及光刻显影、去胶等步骤需要湿法制程设备。以半导体清洗设备为例,根据亚化咨询预测,2025年全球市场将达近41亿美元,此外,清洗设备的国产化率仅在20%左右。未来国内湿制程设备将迎来广阔机遇。
第四届半导体湿电子化学品与电子气体论坛2023将于4月26日在杭州召开。会议由亚化咨询主办,多家国内外龙头企业重点参与。
会议主题
半导体光刻功能性湿化学品及气体
半导体清洗剂的现状及替代品
半导体CMP抛光研磨液
含硅特种气体及其前驱体
半导体用大宗气体市场情况
半导体用干刻、清洗气体
电子级氢氟酸的纯化技术及技术发展
半导体级双氧水、硫酸在先进晶圆厂中的应用
半导体封装用电镀液市场及发展
清洗设备、涂胶显影设备与技术
湿法刻蚀设备的发展与国内技术
湿法制程与湿电子化学品的配套
若您有意向参会、赞助及做演讲报告,欢迎联系我们(联系方式请参见文中及文末配图)
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