台积电预计6月将对英伟达AI加速技术导入2纳米进行生产资格认证

集微网消息，英伟达CEO黄仁勋21日透露，经与台积电、ASML及新思科技四方的合作，经历四年开发，英伟达完成全新的AI加速技术Culitho，这是一个用于运算式微影软件库，将可缩短先进制程芯片的光罩时程、拉升良率并大幅减低晶圆制作的能耗。黄仁勋预告台积电将于6月开始对cuLitho进行生产资格认证，用于提升2纳米制程良率，并缩短量产时程。

在GTC大会的主题演讲上，黄仁勋称，随着产业向更高芯片制程进军，算力需求也大幅增加，芯片光刻工艺愈加复杂。从原理上来看，光刻机就是用光把图案投射到硅片上，一方面需要让投射图案尽可能地小，可以在一平方毫米中塞入成千上万，甚至数亿个晶体管；另一个则要让生产效率最高，出产尽量多的晶圆。

英伟达表示，用于计算光刻的全新英伟达cuLitho软件库被世界领先的晶圆代工厂台积电和电子设计自动化领导者新思科技集成到其最新一代英伟达Hopper架构GPU的软件、制造流程和系统中。设备制造商ASML在GPU和cuLitho方面与英伟达密切合作，并计划将对GPU的支持集成到其所有计算光刻软件产品中。

这将使芯片具有比现在更细的晶体管和电线，同时加快上市时间并提高以驱动制造过程的大型数据中心的能源效率。

黄仁勋说，晶圆制程中的微影制程，是一项产生大量图案成形工作量制程，每年耗费数百亿个中央处理器（CPU）工作小时，台积电每年庞大的资本支出中，就必须花费相当高比重，建立大型数据中心，建置全年无休的光罩系统。

而借助cuLitho，台积电可以缩短原型周期时间，提高晶圆产量，减少芯片制造过程中的能耗，并为2纳米及以上的生产做好准备。据悉台积电将于6月开始对cuLitho进行生产资格认证。

（校对/赵月）