荷兰将限制最先进DUV设备出口国内

为配合美国切断国内取得关键半导体技术的管道，荷兰准备扩大限制半导体制造设备对国内的出口，其中包含ASML的浸润式深紫外光（DUV）微影设备。新规定预期会在2023年夏天之前发布。

根据彭博（Bloomberg）报导，荷兰对外贸易与发展合作部长Liesje Schreinemacher，在一封致国会议员的信函中指出，「基于国家与国际安全的考量，我国认为有必要尽快将这项技术纳入管制」；同时透露，新规定预计在2023年夏天之前发布。

先前，ASML已遭禁止出售最先进的极紫外光（EUV）微影设备予国内企业；荷兰政府的新规定，将进一步扩大限制范围，涵盖到DUV等采用非最先进技术的设备。

ASML声明中指出，未来如果要出售最先进的DUV系统，公司必须先申请出口许可；但同时强调，新的出口管制并不涉及所有的浸润式微影设备，只包含最先进的部分。不过ASML也坦言，目前尚未收到指示，明确定义什麽叫做「最先进的」，该公司认为可能是指TWINSCAN NXT：2000i，及之后推出的侵润式设备。

ASML同时表示，这项措施不会对公司2023全年乃至更长期性的财务展望，带来任何的实质性影响。

荷兰与日本是在2023年1月与美国达成原则性协议，加入美国在2022年10月对国内发起的新一波半导体贸易制裁。外界评论，如果ASML所言为真，则荷兰政府的新规定，并没有达到美国政府对应用材料（Applied Materials）、科林研发（Lam Research）与科磊（KLA）等本土设备业者的限工艺度，因为这些限制不仅涉及产品，还包括人员的流动。如果荷兰打击力道不及美国，恐怕会对3国协议造成冲击。

来源：DIGITIMES