【中标】拓荆科技中标华虹宏力1台等离子化学气相沉积设备

集微网消息，3月2日，上海华虹宏力半导体制造有限公司等离子化学气相沉积设备采购项目中标结果公布。

该项目中标人为拓荆科技股份有限公司（以下简称“拓荆科技”），涉及标的物为1台等离子化学气相沉积设备。

据悉，拓荆科技成立于2010年4月，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，产品已广泛应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等新技术领域。（校对/韩秀荣）