订单大增，盛美上海2022年净利润同比增长151.08%

集微网消息，2月24日，盛美上海发布2022年年度报告称，2022年公司营业收入为28.73亿元，同比增长77.25%，主要原因是受益于国内半导体行业设备需求的不断增加，销售订单持续增长；新客户拓展、新市场开发等方面均取得一定成效；新产品得到客户认可，订单量稳步增长。

2022年归属于上市公司股东的净利润同比增长151.08%，主要原因是公司主营业务收入和毛利增长所致。

2022年归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润同比增长254.27%，主要原因是：1）公司主营业务收入和毛利增长；2）公司2022年非经常性损益金额为-2140.59万元，上年同期7151.39万元，因此2022年归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润较上年同期大幅增长。

2022年经营活动产生的现金流量净额为-2.69亿元，同比下降主要是因销售订单增长引起的本期购买原材料支付的现金较上期增加以及支付职工薪酬较上期增长所致。

2022年基本每股收益1.54元，较上年同期增长126.47%；稀释每股收益1.53元，较上年同期增长128.36%；扣除非经常性损益后的基本每股收益1.59元，较上年同期增长224.49%。主要原因是公司主营业务收入增长所致。

2022年加权平均净资产收益率12.98%，较去年同期减少5.11个百分点，主要原因是2021年11月公开募集资金，使得2022年加权平均净资产较2021年大幅增加所致。

报告期内，盛美上海在研发创新、知识产权体系建设、生产经营、外延式生长等方面取得了积极成果。公司与全球一线半导体企业的深度合作，有助于公司深入了解市场需求、有针对性地开发创新性解决方案，也提升了公司对新产品、新技术、新市场的理解，提升了公司技术和产品的竞争力。

（1）立式炉管设备

盛美上海以Ultra Fn立式炉设备平台为基础，进一步推出了ALD（热原子层沉积）立式炉Ultra FnA。这款设备聚焦核心技术研发，力求满足高产能批式ALD工艺的高端要求。

（2）涂胶显影Track设备

盛美上海推出前道涂胶显影Ultra Lith Track设备，采用公司具有全球专利申请保护的垂直交叉式架构，应用于300毫米前道集成电路制造工艺，可提供均匀的下降层流、高速稳定的机械手以及强大的软件系统，从而满足客户的高产出及其他特定需求。该设备支持主流光刻机接口，支持包括i-line、KrF和ArF系统在内的各种光刻工艺。

（3）等离子体增强化学气相沉积PECVD设备

盛美上海推出Ultra Pmax TM PECVD设备，该设备配置了自主知识产权的腔体、气体分配装置和卡盘设计，能够提供更好的薄膜均匀性，更小的薄膜应力和更少的颗粒特性。Ultra Pmax PECVD设备的推出，标志着公司在前道半导体应用中进一步扩展到全新的干法工艺领域。

（4）先进封装用金属剥离湿法设备

盛美上海为Ultra C pr设备新添金属剥离工艺，以支持功率半导体制造和晶圆级封装（WLP）应用。该应用是一种形成晶圆表面图案化的方法，省去了蚀刻工艺步骤，可降低成本，缩短工艺流程，并减少高温化学品用量。

（5）新型化合物半导体系列湿法设备

盛美上海推出了6/8寸化合物半导体湿法工艺产品线，以支持化合物半导体领域的工艺应用，包括碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)和砷化镓(GaAs)等。

化合物半导体湿法工艺产品线包括涂胶、显影、光阻去除、湿法蚀刻和清洗设备，为化合物半导体领域的客户提供一站式的服务。

（6）硅材料衬底制造湿法设备：化学机械研磨后（Post-CMP）清洗设备

盛美上海推出CMP后清洗设备用于高质量硅衬底及碳化硅衬底的制造。该清洗设备6英寸和8英寸的配置适用于碳化硅（SiC）衬底制造；8英寸和12英寸配置适用于硅片制造。

盛美上海表示，公司通过持续的研发投入和长期的技术、工艺积累，在新产品开发、生产工艺改进等方面形成了一系列科技成果，对公司持续提升产品品质、丰富产品布局起到了关键性的作用。公司取得的科技成果是公司竞争力的重要组成部分，亦是公司产品销售规模得以持续增长的基础。

（校对/占旭亮）