High-K材料出现质量问题，致SK海力士DRAM工厂部分设备暂停运作

来源：科技新报

韩国《The Elec》获悉，由于 High-K 材料的质量发生问题，韩国半导体大厂 SK 海力士（SK Hynix）的 DRAM 生产流程于本月传出卡关状况。

《The Elec》2月20日报导，据知情人士透露，原因是材料供应商SK Trichem提供含铪（Zirconium）的High-K材料掺有杂质，导致SK海力士DRAM工厂的部分设备一度暂停运作。

SK海力士表示，已立即清洁工厂产线，因此产量没有受到影响。不过，该公司正在调查这起事件，并要求SK Trichem赔偿因设备停摆及更换零件所造成的损失。

此外，SK海力士将暂停向SK Trichem采购材料，直到问题完全解决为止。在此之前，UP Chemical和M Chemical将做为SK海力士High-K材料的替代供应商。

SK Trichem回应称，预计在本月底前完成质量改善，向SK海力士恢复正常供货。

SK Trichem指出，这起事件的主因是High-K材料的纯度不足，导致部分设备承受的压力增加，进而被迫暂停运作。

High-K材料是制造半导体用的高纯度前驱物，以原子级的厚度沉积在DRAM电容上。电容是DRAM的重要组成部分，可以决定DRAM的效能，因此High-K材料的质量至关重要。

更多商务合作，欢迎与小编联络！

扫码请备注：姓名+公司+职位

我是CINNO最强小编, 恭候您多时啦！

CINNO于2012年底创立于上海，是致力于推动国内电子信息与科技产业发展的国内独立第三方专业产业咨询服务平台。公司创办十年来，始终围绕泛半导体产业链，在多维度为企业、政府、投资者提供权威而专业的咨询服务，包括但不限于产业资讯、市场咨询、尽职调查、项目可研、管理咨询、投融资等方面，覆盖企业成长周期各阶段核心利益诉求点，在显示、半导体、消费电子、智能制造及关键零组件等细分领域，积累了数百家大陆、台湾、日本、韩国、欧美等高科技核心优质企业客户。