上海新阳：目前两基地光刻胶规划年产能1000多吨

集微网消息（文/白雨轩）2月16日，上海新阳在投资者互动平台就“问上海本部、合肥基地半导体光刻胶产能各多少？”等问询问题表示，目前两基地光刻胶规划年产能1000多吨。

据披露，上海新阳去年二月与合肥新站高新技术产业开发区管委会签署了《投资合作协议书》，就公司在合肥新站高新技术产业开发区管委会辖区内投资建设公司第二生产基地二期项目达成协议，该项目总投资约3.2亿元人民币，占地40亩，主要从事芯片清洗液、研磨液系列等集成电路关键工艺化学材料产品的研发、生产和销售。

上述项目满产后年产值约5亿元。预计于2024年实现量产，2030年实现满产。项目预计年综合能源消费量约2600吨标准煤当量。

另外，上海新阳还表示，上海化学工业区项目中年产15000吨干法蚀刻清洗液系列产品已成为公司已规模量产销售的产品。

（校对/黄仁贵）