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来源:全球半导体观察发布时间:2023-02-16547浏览
询问 AI据韩国媒体报道,为缩小与对手台积电的市占差距,三星开始开发极紫外光(EUV)护膜。
光罩护膜是极紫外光(EUV)微影曝光时的关键零件,在光罩加装一层护膜,机器在上面绘制要刻上晶圆的电路,以免光罩受空气微尘或挥发性气体污染,同时减少光罩损坏率。目前,全球主要供应商是荷兰ASML、日本三井化学和韩国SS Tech。
据悉,三星此前在 2021年的Foundry Forum就曾宣布要自研EUV护膜,并2023年初开发透光率达88%的EUV护膜。若按照三星计划进行,目前该公司EUV护膜应已量产,有助达成供应链多元化和稳定。不过三星要继续开发,因88%透光率护膜并不是品质最好的产品。
韩媒BusinessKorea报道,三星半导体研究所近期的招聘启事显示三星正积极开发透光率92%的EUV护膜。目前,市场市场研发透光率达90%以上EUV护膜主要为ASML和SS Tech,后者于2021年成功开发透光率为90%的EUV护膜。
此外,三星也开始研究下一代High-NA EUV护膜,将采用新材料,也将与外部机构合作,开发评估碳纳米管和石墨烯制EUV护膜。同时三星也会推动自行开发的纳米石墨薄膜大量生产设施设计。
值得一提的是,台积电从2019年开始,就使用自行开发的EUV护膜,且2021年宣布产能比2019年提高20倍。市场人士表示,三星推动EUV护膜开发,就是为了追上台积电。
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