拓荆科技拟投5亿设全资子公司，完善业务布局

集微网消息，日前，拓荆科技发布公告称，公司根据未来发展规划，拟以货币形式和/或非货币财产作价方式合计出资5亿元设立全资子公司拓荆科技（沈阳）有限公司，主要围绕公司现有主营业务开展相关经营活动，从事高端半导体薄膜沉积设备的研发、生产、销售与技术服务。拓荆科技（沈阳）有限公司的成立有利于促进公司发展战略的实施，完善和提升公司业务发展布局，增强公司盈利能力，进一步提升公司的综合竞争力。

根据公告内容显示，拓荆科技股份有限公司持有其100%股权，拓荆科技（沈阳）有限公司经营范围包括技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广，电子专用设备制造，电子专用设备销售，半导体器件专用设备制造，半导体器件专用设备销售，机械零件、零部件加工，机械零件、零部件销售等。

拓荆科技表示，公司设立拓荆科技（沈阳）有限公司，是基于公司未来发展规划的考虑，有利于促进公司发展战略的实施，进一步扩大业务规模，增强公司盈利能力，提升公司的综合竞争力，不会对公司财务状况和经营成果产生重大不利影响，亦不存在损害公司及股东尤其是中小股东利益的情形。

资料显示，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。该公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，打破国际厂商在高端半导体薄膜沉积设备领域对国内市场的垄断，与国际寡头直接竞争。（校对/李帅）