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来源:半导体前沿发布时间:2023-01-042451浏览
询问 AI近日,上交所正式受理了上海合晶硅材料股份有限公司(简称:上海合晶)科创板上市申请。
上海合晶是中国少数具备从晶体成长、衬底成型到外延生长全流程生产能力的半导体硅外延片一体化制造商,主要产品为半导体硅外延片。公司致力于研发并应用行业领先工艺,为客户提供高平整度、高均匀性、低缺陷度的优质半导体硅外延片。发行人的外延片产品主要用于制备功率器件和模拟芯片等,被广泛应用于汽车、通信、电力、工业、消费电子、高端装备等领域。
上海合晶曾于2020年向上海证交所递件申请科创板上市案,虽于当年6月完成受理,但经审核问询后,双方未达成一致性的意见,在已届审查期限下,于2020年12月暂时撤回上市申请。
母公司台湾合晶科技董事会今年3月决议重启上海合晶上市申请,预计上海合晶发行新股后,合晶对其持股比例将降至约32.63-41.22%。6月30日,中信证券披露了关于上海合晶硅材料股份有限公司首次公开发行股票并上市辅导备案报告。
半导体硅片是半导体产业链的基础,也是中国半导体产业与国际先进水平差距较大的环节之一,我国大硅片技术水平及自主供应能力较弱,依赖进口程度较高,是半导体产业链中的短板,因此半导体硅片国产化符合国家重大需求,具有重大战略意义。
产品以外延片为主、客户涵盖海内外半导体领先企业
目前,上海合晶客户遍布中国、北美、欧洲、亚洲其他国家或地区,拥有良好的市场知名度和影响力。公司已经为全球前十大晶圆代工厂中的 7 家公司、全球前十大功率器件IDM厂中的6家公司供货,主要客户包括华虹宏力、中芯集成、华润微、台积电、力积电、威世半导体、达尔、德州仪器、意法半导体、客户A等行业领先企业,并多次荣获华虹宏力、台积电、达尔等客户颁发的最佳或杰出供应商荣誉,是我国少数受到国际客户广泛认可的外延片制造商。
2019年至2022年1-6月,上海合晶实现营业收入分别为11.14亿元、9.41亿元、13.29亿元、7.47亿元。
其中,报告期内,公司外延片业务收入分别为82,593.90万元、77,421.13万元、110,419.70万元及71,005.22万元,占主营业务收入的比例分别为82.52%、82.60%、83.56%及 95.12%。公司向客户提供外延片销售和外延片加工服务,拥有稳定的客户群,主要为行业知名企业,公司在长期的合作中赢得了客户的信赖。
报告期内,公司硅材料业务收入分别为9,477.17万元、8,639.20万元、7,712.52万元及3,641.15万元,占主营业务收入的比例分别为 9.47%、9.22%、5.84%及4.88%,整体呈下降趋势。
2019年至2021年,公司抛光片业务收入分别为1,197.42万元、5,647.71万元及14,009.81万元,占主营业务收入的比例分别为 1.20%、6.03%及 10.60%。
募资15.64亿元投建半导体硅外延片等项目
招股书显示,上海合晶此次IPO拟募资15.64亿元,投建于低阻单晶成长及优质外延研发项目、优质外延片研发及产业化项目、补充流动资金及偿还借款。


关于公司战略规划,上海合晶表示,公司战略规划半导体硅外延片是生产 MOSFET、IGBT 等功率器件和 PMIC、CMOS 等模拟器件的关键材料,下游需求持续增长,市场空间广阔。与此同时,半导体硅片行业是半导体产业链基础性的一环,也是我国半导体产业链与国际先进水平差距较大的环节,中国半导体硅外延片,尤其是 12 英寸半导体硅外延片,依赖进口程度较高,严重制约了中国半导体产业的发展。
来源:集微网等

化学机械抛光(CMP)是实现晶圆全局平坦化的关键工艺。CMP工艺贯穿硅片制造、集成电路制造与封装测试环节。抛光液和抛光垫是CMP工艺的核心耗材,占据CMP材料市场80%以上。鼎龙股份、华海清科为代表的CMP材料与设备企业受到行业重点关注。
靶材是制备功能薄膜的核心原材料,主要用于半导体、面板、光伏等领域,实现导电或阻挡等功能。在半导体几大材料中,靶材是国产化程度最高的一种。国产铝、铜、钼等靶材领域取得突破,主要上市公司有江丰电子、有研新材、阿石创、隆华科技等。
未来三年将是中国半导体制造产业高速发展期,中芯国际、华虹宏力、长江存储、长鑫存储、士兰微等企业加速扩产,格科微、鼎泰匠芯、华润微等企业布局的12英寸晶圆生产线也将陆续投产,这将带来巨大的CMP材料与靶材需求。
新形势下,国内晶圆厂供应链安全越发重要,培养稳定的本土材料供应商势在必行,这也将给国内供应商带来巨大的机遇。靶材的成功经验,也将给其他材料的国产化发展提供借鉴。
半导体CMP材料与靶材研讨会2022由亚化咨询主办,多家国内外龙头企业重点参与。
会议主题
1.中国CMP材料与靶材政策与市场趋势
2.美国制裁对国内半导体材料供应链的影响
3.CMP材料与靶材市场与重点企业分析
4.半导体CMP抛光研磨液
5.CMP抛光垫与清洗液
6.CMP抛光设备进展
7.半导体靶材市场供需
8.半导体靶材重点企业动向
9.CMP与靶材技术进展
10.靶材国产化经验及借鉴

第3届第三代半导体论坛由亚化咨询主办,多家国内外龙头企业参会,重点关注碳化硅、氮化镓上下游产业链;最新衬底、外延、器件加工工艺和生产技术;展望氧化镓、氮化铝、金刚石、氧化锌等宽禁带半导体前沿技术研究深度进展。并将参观国内第三代半导体材料与设备产业园区和重点企业。
会议主题
1.美国芯片禁令对中国第三代半导体发展的影响
2.全球与中国第三代半导体市场及产业发展现状
3.晶圆产能供需与第三代半导体市场机遇
4.6吋SiC项目投资与市场需求展望
5.SiC PVT长晶技术液相法的现状及发展
6.8吋SiC国产化进程和技术突破
7.SiC市场以及技术发展难题解决方案
8.GaN射频器件及模块在5G基站方面的应用
9.GaN在快充市场中的发展及替代情况
10.GaN激光器件技术和市场应用
11.国产化与技术及设备发展机遇与挑战
12.其他第三代半导体发展前景
13.工业参观与考察(重点企业或园区)
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