S&S Tech护膜透光率破90% 三星3纳米制程添利器

三星传2023年有意导入新研发EUV光罩护膜，提升3纳米制程竞争优势。法新社

传三星电子（Samsung Electronics）正在加速提升3纳米制程生产稳定及良率，预计2023年在最新制程中，导入新研发量产的极紫外光（EUV）光罩护膜（pellicle），期望与台积电的先进制程竞争，能够取得相对优势。

韩媒ChosunBiz引述业界消息，指韩国半导体零组件材料业者SS Tech，最快2023年上半，将量产透光率达90%以上的EUV光罩护膜。SS Tech以94%透光率为目标，积极投入研发，日前传出已相当接近94%透光率，预计2023年可达三星要求规格。

SS Tech相关人士透露，量产光罩护膜的工厂，建设接近尾声，正准备下订设备。三星投资的零组件、材料与设备合作伙伴中，SS Tech可说是吸引最多资金的业者。2020年7月，三星投资SS Tech约658亿韩元（约5,200万美元），获得8%股权。

进入EUV时代，三星认为光罩护膜开发至关重要，多年来SS Tech致力开发EUV空白光罩与护膜。EUV制程是否有光罩护膜，差别非常大，因为EUV曝光复杂，绘制电路的光罩受污染，经常是良率下滑主因。

此外，光罩要价非常昂贵，采透光率较佳的护膜，不仅可提升良率，也有助于降低生产成本。使用光罩护膜，虽可使光罩不受灰尘附着，但最大关键是护膜的透明度与耐用性。

传三星预计在最先进的制程中，导入新研发光罩护膜，坚持护膜透光率90%以上，这样光源的损失，才能降至最低。

目前还没有任何一家业者，采透光率90%以上的护膜。全球晶圆代工龙头台积电，据传采用的护膜透光率为80%多。三星深信如果韩国合作伙伴，开发出透光率90%以上的护膜，将有助于三星与台积电的竞争，取得相对竞争优势。

综合先前报导，EUV光罩护膜相关业者有ASML、三井化学（Mitsui Chemicals）、SS Tech及FST等，三星、台积电朝自主开发方向努力。三星先前分别投资SS Tech与FST开发EUV护膜，台积电传有意自制EUV光罩护膜。至于全球唯一生产EUV微影设备的ASML，研发相关技术交由日本三井化学量产。

三星综合技术院（SAIT）约从5年前，投入EUV护膜研发，然而在透光率、耐久性等方面，尚未达到导入实际制程水准。目前看来，三星采取与其他业者合作，但同时自主开发EUV护膜的双管齐下策略，订立量产目标，同时也不排除向多家业者采购，多元化供应来源。

责任编辑：张兴民