华大九天刘伟平：国产商用EDA已实现70%覆盖 还要克服四大差距

集微网报道 作为国家集成电路产业发展的核心支柱之一，国产EDA的发展受到了越来越多的关注。在2022北京微电子国际研讨会暨IC WORLD 大会上，华大九天董事长刘伟平发表了专题演讲，分享对产业发展的看法和建议。

刘伟平指出国内EDA这几年取得了长足的进展，但是同国际厂商相比，仍存在不小的差距。国内商业化的EDA工具的覆盖率只能达到70%左右，最大的问题是没有完整的平台和产品链，在全球市场的市占率也只占到2%。这几年虽然涌现了很多企业，但是规模偏小，200人以上的企业目前只有7家，远不能同国际大厂相比。

值得欣慰的是，国内EDA的研究已经涉及了产业链的各个环节，这也为今后对产业链的支持打下了坚实的基础。

刘伟平认为当代EDA有4大发展趋势。首先，要跟上后摩尔时代的技术演进步伐，包括先进工艺（5/3/2nm)、新方法（先进封装、异构）、新材料（三代半）；第二，新兴应用牵引，包括5G/IoT、汽车电子和硅光芯片；第三，AI技术的加持，包括AI提高EDA效率和EDA助力AI芯片设计；第四，EDA云平台的出现。

面对这些技术发展趋势，诸多技术挑战也随之而来，如AI与EDA的融合，系统、封装和芯片的协同设计，海量数据数据的处理，芯片安全、高性能仿真等，都是EDA行业需要在未来重点关注的。

同时，刘伟平也指出国内EDA发展存在中的几点目标差距，首先是对先进工艺支持不足，其次是缺乏自己的标准和底座，第三是尚未在IP业务上进行大规模布局，第四是产业链的协同方式还不够成熟。

刘伟平最后表示，整个产业要面向未来，通过实现更先进的技术，才能把整个产业链支撑起来。