久日新材：在光刻胶方面已有授权发明专利1项、在审发明申请1项

集微网消息，有投资者在互动平台上提问久日新材称，公司光刻胶专利申请量、国内占比？为加速验证，光刻胶厂家一般有自我验证能力，公司有此能力？为此就要买光刻机，增加成本，光刻机开机成本等同购置成本，像南大光电、晶瑞股份、上海新阳都已购置，公司怎么解决这个问题？国内g线、i线光刻胶自给率约为20%，南大光电已能生产，晶瑞股份、北京科华微等在做，他们的光敏剂PCA来源？久日光刻胶生产与他们优劣、区别在哪？久日光刻胶会否一生产出来，市场需求就基本饱和了？

久日新材回应称，公司在光刻胶方面现已有授权发明专利1项、在审发明申请1项，并储备了部分尚未申请专利的技术。

久日新材指出，公司子公司久日半导体的实验室建设已初具规模，截至目前，已购置相关的实验用光刻机两台，久日半导体将重点从事半导体i-线、g-线光刻胶的研发与制备，以及光刻胶的性能测试。根据中国产业信息网数据显示，近年来全球光刻胶总需求不断增长，尤其是我国光刻胶市场发展速度领跑全球，因此，光刻胶在我国仍然具有很大的应用潜力和市场机遇。

（校对/王云朗）