华中科技大学刘世元团队成功研发计算光刻EDA软件OPC

集微网消息，据华中科技大学消息，该校机械学院刘世元教授团队研发出我国首款完全自主可控的OPC软件，并已在相关企业实现成果转化和产业化。

据刘世元介绍，光刻是芯片制造中最为关键的一种工艺，就是通过光刻成像系统，将设计好的图形转移到硅片上。随着芯片尺寸不断缩小，硅片上的曝光图形会产生畸变。在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必须采用一类名为OPC（光学临近校正）的算法软件进行优化。没有OPC，所有IC制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产品的能力。

据悉，OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种。

华中科技大学消息显示，刘世元是该校集成电路测量装备研究中心、光谷实验室集成电路测量检测技术创新中心主任。他早年师从原华中理工大学校长、著名机械学家杨叔子院士，于1998年获工学博士学位。（校对/赵碧莹）