西门子 EDA & 普迪飞半导体联合网络研讨会：实现更优NPI及良率提升能力

西门子 EDA 普迪飞半导体联合网络研讨会:

实现更优NPI及良率提升能力

时间：2022年12月08日 16:00-17:00

普迪飞半导体和西门子 EDA将联合举办网络研讨会，展示目前西门子 EDA Tessent 和普迪飞 Exensio Manufacturing Analytics 之间的集成与合作。

内容介绍

受摩尔定律（集成电路上可以容纳的晶体管数目在大约每经过18个月便会增加一倍）的驱动，半导体行业一直在向更新的技术节点迁移，到现在的7nm，5nm。消费电子和汽车电子芯片的需求在不断增加，而产能受客观影响有一定的收紧，所以说，只有保持高良率，才能充分利用产能，实现更高的利润转化率。如何突破良率壁垒、加速良率提升，亟需一套有针对性的完整的解决方案。

在本次网络研讨会中，西门子 EDA 和普迪飞的嘉宾将介绍一种集成的、全面的端到端解决方案，其中包括 Scan diagnosis，MBIST diagnosis，数据分析和机器学习，以加速新产品的上市。

这种行业领先技术之间的强大协作集成了西门子EDA TessentDiagnosis 和 YieldInsight 中的逻辑电路机器学习、Tessent SiliconInsight 的存储器诊断功能以及 普迪飞的 ExensioManufacturing Analytics模块。

嘉宾介绍：

西门子 EDA Tessent AE manager：Junna

钟君娜，Tessent AE Manager，资深 DDYA 专家。从事 Tessent 产品线技术支持逾10年，其中6年的 DDYA（诊断驱动的良率分析）相关经验。推动并支撑 DDYA 在中国区领袖 IC 设计公司和代工厂的规模化应用。在 TSMC、SMIC、UMC 等的先进工艺项目良率提升方面积累了丰富的经验。

普迪飞半导体 Marketing Manager：Sunny

王文渊，加入普迪飞14年，先后从事过半导体良率提升数据分析服务，Exensio 产品线技术支持，市场推广与拓展，积累了丰富的半导体良率提升领域相关经验。

通过该网络研讨会，您将：

了解到将扫描诊断、存储器诊断、机器学习和数据分析相集成的平台是如何为您提供强大的 NPI (新产品引入) 和良率提升能力的。

对哪些人帮助最大：

• DFT 设计工程师/经理

• IC 设计工程师/经理

• 生产运营团队

报名方式：

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参与网络研讨会并回答会后调查问卷，将有机会获得精美礼品。