导读：11月23日，南大光电在接受机构调研时表示，公司ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业的验证，目前多款产品正在多家客户同时进行认证。
图：南大光电
据南大光电透露，公司的光刻胶主要检测设备（如光刻机）已经安装调试完毕，并正常投入使用。
上半年，芯片大师曾报道南大光电：ArF光刻胶已通过存储及逻辑芯片制造企业验证，旗下用于90nm-28nm制程的ArF光刻胶已分别通过存储芯片制造和逻辑芯片制造企业验证。
此外，南大光电本次还表示，公司量产产品包括MO源、半导体前驱体、电子特气、光刻胶及配套材料等，可在薄膜沉积、光刻、蚀刻、掺杂、清洗等多个集成电路制造流程中实现应用。
南大光电是从事先进电子材料生产、研发和销售的高新技术企业，产品广泛应用于集成电路、平板显示、LED、第三代半导体、光伏和半导体激光器的生产制造。公司产品分为先进前驱体材料、电子特气和光刻胶及配套材料三个板块，目前主要收入贡献来自于先进前驱体材料和电子特气。
其中，南大光电表示，先进前驱体材料如28nm和14nm制程前驱体、硅前驱体等产品研发和产业化取得重要突破。氢类电子特气在技术、品质、产能和销售各方面已跃居世界前列。氟类电子特气方面公司加快乌兰察布“试验田”建设，为建设“世界单项冠军”产品奠定坚实的基础。
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