盛美上海进军涂胶/显影Track市场！

今日，盛美上海宣布推出涂胶显影Track设备，标志着该公司已正式进军涂胶显影Track市场。据介绍，盛美上海涂胶显影Track设备是一款应用于300毫米晶圆工艺的设备，可提供均匀的下降气流、高速稳定的机械手处理以及强大的软件系统，从而满足客户特定需求。该设备功能多样，能够降低产品缺陷率，提高产能，节约总体拥有成本（COO）。涂胶显影Track设备将支持包括i-line、KrF和ArF系统在内的各种光刻工艺。涂胶显影Track设备支持光刻工艺，可确保满足工艺要求，同时让晶圆在光刻设备中曝光前后的涂胶和显影步骤得到优化。该设备专为300毫米晶圆而设计，共有4个适用于12英寸晶圆的装载口，8个涂胶腔体、8个显影腔体。该设备腔体温度可精准控制在23°C ±0.1°C ，烘烤范围为50°C至250°C，晶圆破损率低于1/50,000。此外，全球专利申请保护的全新结构设计还可拓展支持12个涂胶腔体及12个显影腔体，每小时晶圆产能可达300片，将来在配备更多的涂胶和显影腔体的条件下还能达到每小时400片以上的产能。盛美上海于2013年开发了首个封装涂胶机和显影机，并于2014年交付了给客户。该公司将于几周后向中国国内客户交付首台ArF工艺涂胶显影Track设备，并将于2023年推出i-line型号设备。此外，公司已开始着手研发KrF型号设备。日前，盛美上海公布了2022三季报，公司主营收入19.78亿元，同比上升81.86%；归母净利润4.41亿元，同比上升196.42%；扣非净利润4.81亿元，同比上升403.62%。其中，2022年第三季度，公司单季度主营收入8.83亿元，同比上升90.87%；单季度归母净利润2.04亿元，同比上升245.91%；单季度扣非净利润2.23亿元，同比上升379.24%。11月16日，盛美上海湿法设备3000腔顺利交付。（文：拓墣产业研究 Amber整理）

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