精度远超EUV光刻机，美国造出全球最高分辨率光刻机

来源:电子工程世界发布时间:2022-09-2720浏览

▲更多精彩内容请点击上方蓝字关注我们吧！当ASML的EUV光刻机还在为制造2nm、1nm芯片发愁的时候，美国公司却在另一个先进光刻方向上取得了突破，Zyvex使用电子束光刻技术制造了768皮米，也就是0.7nm的芯片，这种芯片可用于量子计算机。
Zyvex推出的光刻系统名为ZyvexLitho1，基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式，制造出了0.7nm线宽的芯片，这个精度是远高于EUV光刻系统的，相当于2个硅原子的宽度，是当前制造精度最高的光刻系统。
这个光刻机制造出来的芯片主要是用于量子计算机，可以制造出高精度的固态量子器件，以及纳米器件及材料，对量子计算机来说精度非常重要。

ZyvexLitho1不仅是精度最高的电子束光刻机，而且还是可以商用的，Zyvex公司已经可以接受其他人的订单，机器可以在6个月内出货。
EBL电子束光刻机的精度可以轻松超过EUV光刻机，然而这种技术的缺点也很明显，那就是产量很低，无法大规模制造芯片，只适合制作那些小批量的高精度芯片或者器件，指望它们取代EUV光刻机也不现实。

关于Zyvex

据Zyvex Labs官网显示，Zyvex Corporation由 Jim Von Ehr 于 1997 年创立，旨在开发和商业化原子精密制造(APM)技术，以制造具有原子精密度的产品。如果开发得当，APM 允许灵活制造各种产品，从设计材料到超级计算机再到先进的医疗设备。
在创办 Zyvex Corporation 之前，Jim 作为软件企业家的背景使他意识到 APM（创建“数字物质”）可以比任何现有技术更有效、更准确和更具成本效益地制造产品。
早期，Zyvex Corporation 对 APM 进行了基础研究，并经常在此过程中构建自己的工具。最近，该公司通过开发商业纳米材料和纳米操作产品将该技术推向市场。
2001 年，Zyvex Corporation 获得了美国国家标准与技术研究院先进技术计划(NIST ATP)颁发的一项重要研究奖。纳米技术应用和制造的组装商：开启纳米技术时代（程序 ID 70NANB1H3021）是与霍尼韦尔和几所支持微机电系统(MEMS)开发、纳米探测、纳米操作和其他基础纳米技术工作的大学共同承担成本的五年联合计划。
2003 年和 2004 年，Zyvex 公司获得了美国 DARPA（国防高级研究计划局）颁发的小型企业创新研究(SBIR)奖，以开发 mini-SEM。小型扫描电子显微镜和用于生产低成本mini-SEM的制造组装技术支持了Zyvex在电子光学技术上的发展。
2004 年，Zyvex 公司还收到了美国能源部的另一份 SBIR。用于透射电子显微镜的 MEMS 纳米探针（程序 ID DE-FG 0204ER84130）专注于开发用于透射电子显微镜(TEM)的基于 MEMS 的纳米操作器。该计划的结果间接导致了Zyvex MEMS 精细定位阶段的改进。
2007 年 4 月，Zyvex Corporation 重组为三个独立的公司，以确保持续专注于产品：Zyvex Performance Materials LLC、Zyvex Instruments LLC 和 Zyvex Labs LLC。资产在三个公司之间分配，并为材料和仪器业务聘请了专门的管理人员。
目前，Zyvex Labs 有两个目标：1、开发 APM；2、开发微细加工和 3D 微组装技术。Zyvex Labs的 MEMS 技术是在 Zyvex 为期 5 年、耗资 2500万美元的 NIST ATP 项目期间开发的，目前正用于制造微型科学仪器，例如微型扫描电子显微镜和微型原子力显微镜，以及下一代纳米探测系统。这些系统将为更大的市场合作伙伴开发或根据最终产品分拆成独立的公司。Zyvex Labs 也是 Nano-Retina的创始合作伙伴，该公司正在构建一种先进的假肢视觉设备。
来源：网络内容综合

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