南大光电：公司ArF光刻胶在国内逻辑芯片/存储芯片制造头部企业都有认证

集微网报道近日，南大光电在接受机构调研时表示，公司ArF光刻胶产品在国内逻辑芯片和存储芯片制造的头部企业都有认证。目前通过客户认证的两款胶中，有一款一直有销售，但由于这款胶的用量较少，未形成规模销售。

其进一步称，量产时间需要根据客户订单情况确定，公司目前正在加速客户认证和市场拓展，希望早日实现规模量产。

产能方面，ArF光刻胶25 吨产线是南大光电规划的第一期，后续会根据订单情况确定扩产计划。如果要实施扩产，建设速度也会比较快，预计半年左右时间能完成。

对于前驱体产品验证进展，南大光电表示，公司先进制程金属前驱体和硅前驱体研发项目稳步推进。其中 28nm制程项目中有7款“卡脖子”前驱体材料全部通过客户验证，具备稳定供应的能力。通过对前期引进的 19 项硅前驱体专利技术的消化、吸收和进一步研发，已有4款硅前驱体产品进入国际先进制程企业验证。

南大光电认为，每款硅前驱体产品的研发进度不一样，目前产业化的都是有市场需求，且实验室阶段有稳定公斤级产出的产品。公司将根据研发进度和市场需求制定后续产业化规划。

而氢类特气销售额占南大光电整体收入的21%左右，产品有磷烷和砷烷，主要用于集成电路制造的掺杂工艺和 LED 的化学气相沉积工艺，其中高压产品主要用在 LED 行业，负压产品主要用在 IC 行业。其认为，目前 IC 市场还有很大的空间可以挖掘。公司可转债项目计划的年产 140 吨高纯磷烷、砷烷扩产及砷烷技改项目，产能消化也将向 IC 和海外市场突破。

关于面板厂市场下滑对三氟化氮业务的影响，南大光电表示，下半年面板行业确实有下行趋势，公司三氟化氮产品可能会面临价格下调的压力。公司新增的乌兰察布三氟化氮生产基地依托当地资源，已具备一定的成本优势，再通过精益生产进一步降低成本，提高效益；另一方面，我们将持续提升产品纯度，加大IC和海外市场客户拓展力度，将三氟化氮的应用领域向IC和海外市场转移。

（校对/李行森）