SIGGRAPH 22 | NVIDIA 宣布将材质定义语言完全开源，以简化图形管线

NVIDIA 在 SIGGRAPH 2022 大会上宣布，为了进一步扩大 MDL 生态系统，将全面开源材质定义语言（MDL），包括 MDL Distiller 和 GLSL 后端技术。

构建世界上最精确、扩展性最好的材质和渲染模拟模型是一项需要兼具灵活性与适应性的长期工作。NVIDIA 希望通过 MDL 渲染器中算法中立的材质定义实现材质交换。

MDL 将材质表示从当前的孤岛中解放，实现了跨软件生态系统的材质表示。MDL 可用于定义复杂、物理级精确的材质，并通过降低材质的复杂性来大幅提升性能。

动态材质支持

为了以最佳的方式实现 MDL 对各种渲染器的支持，NVIDIA 正在开源 MDL Distiller。作为 MDL SDK 和语言的配套技术，Distiller 是一个能够将所有 MDL 材质简化成简单渲染器中的简化材质模型的全自动解决方案。渲染器开发者现在可以提供各自的 MDL Distiller 规则，而不是由材质艺术家为简单渲染器提供更简单的材质。

现在，MDL 可以用来创造高质量、统一来源的材质，不再需要为性能较差的渲染器做出妥协或改变，相似和简化任务则由软件来处理。例如，当渲染器的性能提升时，可以在不需要重新创建内容的情况下升级 MDL Distiller 规则，以改进旧的材质。

工作流的灵活高效

新的开源 GLSL 后端技术为基于 OpenGL 或 Vulkan 的渲染器开发者提供 MDL 支持，弥补了与现有图形 API 标准的差距。MDL Distiller 和 GLSL 后端将使更多的开发者能够运用 MDL。

通过公开材质表示，艺术家可以在保持材质外观的同时，自由地跨生态系统工作。也就是说一个材质只需要被创建一次，就可以在多个应用中共享。

MDL 的关键优势是能够在所支持的应用之间共享基于物理学的材质并为渲染器和 NVIDIA Omniverse 等平台的使用带来灵活性。在许多工作流程和管线中，这种应用上的灵活性可以节省时间和精力。

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