ASML开始开始集成High-NA EUV光刻机，第二季度营收暴增

7月20日消息，全球光刻机龙头ASML(阿斯麦)今日公布了截至2022年6月30日的第二季度财务数据。财报显示，ASML二季度销售收入为54.3亿欧元(约合人民币375.46亿元)，高于之前给出的51亿至53亿欧元的财测目标，相比2021 年同期的40亿欧元增长约35.75%;净利润为14.1亿欧元(约合人民币97.55亿元)，相比去年同期的10.4亿欧元增长约35.58%;毛利率为49.1%，符合之前预期的毛利率约49%-50%的区间。

此外，ASML二季度的净预订金额达到了84.6 亿欧元(约合人民币583.55已元，一季度为70亿欧元)，创下历史新高。其中就包括了包括 0.33 NA EUV系统和0.55 NA的High-NA EUV系统的54亿欧元预定金额，占比高达63.8%。作为对比，ASML一季度来自0.33 NA和0.55 NA EUV系统的预定金额仅有25亿欧元。

ASML在二季度财报公布后披露了公司的 High-NA EUV业务进展，目前ASML已收到了来自供应商的第一台高数值孔径(High-NA)机械投影光学器件、光源以及新的晶圆载物台。这些模块将用于初始测试和集成，这是 EXE:5000系列的重要一步进展。

ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务，TWINSCAN系列是世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，比如英特尔(Intel)、三星(Samsung)、海力士(Hynix)、台积电(TSMC)、中芯国际(SMIC)等。

ASML的产品线分为PAS系列、AT系列、XT系列和NXT系列，其中PAS系列现已停产;AT系列属于老型号，多数已经停产。市场上的主力机种是XT系列以及NXT系列，为ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的机型，分为干式和沉浸式两种，而NXT系列则是主推的高端机型，全部为沉浸式。

新一代的光刻机将在高制程芯片制造的良率、工艺水平等方面可能会有很大提升。作为缩小芯片制程的关键设备，新一代的光刻机很可能将有助于在同等空间下实现更多的晶体管数量布局，这对提高芯片制程至关重要。按照惯例，阿斯麦西的光刻机量产后往往会供不应求，而英特尔成为首个吃螃蟹的企业，ASML首台NA0.55EUV光刻机就出货给了英特尔，这让合作多年的台积电悲痛万分，但是英特尔的技术必定没有台积电的更成熟，这是有目共睹的，即便把这么好的设备给了英特尔，短时间内也得不到更好的应用，如果得不到较好的应用反而会砸了阿斯麦尔的科技口碑。

此前报道，美国为了全面遏制中国的半导体业发展，已经向荷兰政府施压，要求荷兰光刻机公司阿斯麦(ASML)扩大对华的禁售范围，在禁止向中国出售最先进的极紫外线光刻机(EUV)基础上，进一步将禁售范围扩大到上一代技术深紫外线光刻机(DUV)的出口。

即便是上一代的旧款DUV光刻机，仍然是制造汽车、电子产品乃至机器人所需芯片的最常用设备，在当前全球芯片紧缺的背景下，DUV光刻机仍然必不可少。如果美国胁迫成功，包括中芯国际(688981.SH、00981.HK)、华虹半导体(01347.HK)等在内的中国大陆的芯片制造企业将会因为缺少光刻机，生产遭受沉重打击。

中国在半导体领域的自主发展和良好前景，也使得欧盟不愿意再像2019年那样跟随美国步伐，再次对华加码实施DUV光刻机的禁售令。来自路透社的报道称，欧盟高级官员在非公开场合表示，不应该与美国已经宣告失败的对华限制政策捆绑，欧洲不愿意再在这个问题上“配合美国”。如果这次再听从美国的指令，连技术老旧的DUV光刻机都不再向中国出口，只会令欧洲失去为数不多的在华高技术产品市场份额。此外，一旦出现这样的情况，不能排除美国会像对待澳大利亚那样，让自己的企业去抢占欧洲退出后的在华市场。

中国光刻机和芯片之路，任重而道远。