ASML宣布公司将斥资建工厂：光刻机对于超精细半导体加工领域至关重要

荷兰ASML公司 (全称： Advanced Semiconductor Material Lithography，该全称已经不作为公司标识使用，公司的注册标识为ASML Holding N.V)，中文名称为阿斯麦尔(中国大陆)、艾司摩尔(中国台湾)。这是一家总部设在荷兰埃因霍芬(Eindhoven)的全球最大的半导体设备制造商之一，向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在阿姆斯特丹及纽约上市。

2日讯，近日，ASML宣布将斥资2亿美元扩建其位于康涅狄格州威尔顿的工厂。据悉，ASML Wilton是ASML在美国最大的研发和制造基地。ASML Wilton拥有2000多名员工，并已在洁净室、实验室和办公室投资1亿美元，是一个至关重要的设计、工程和生产中心。预计此次扩建将在未来两年内创造1000个新工作岗位。

5月31日，美国商务部官网显示，美国商务部副部长Don Graves与荷兰半导体公司阿斯麦(ASML)首席执行官兼总裁 Peter Wennink共同宣布阿斯麦将斥资 2 亿美元扩建其位于康涅狄格州威尔顿的工厂。

据报道，美商务部副部长Don Graves与荷兰半导体设备制造商ASML首席执行官兼总裁Peter Wennink一起在ASML的总部宣布，ASML将斥资2亿美元扩建其位于康涅狄格州威尔顿的工厂。这一宣布正值两党创新法案在国会最终通过之际，该法案将投资520亿美元用于美国半导体的研究、开发和生产。

ASML Wilton 是 ASML 在美国最大的研发和制造基地。ASML Wilton 拥有 2,000 多名员工，并已在洁净室、实验室和办公室投资 1 亿美元，是一个至关重要的设计、工程和生产中心，以满足日益增长的全球需求。预计此次扩建将在未来两年内创造 1,000 个新工作岗位。

“从第一天起，政府就承诺振兴我们的国内制造业经济并确保我们的国家安全。实现这些目标的起点和终点都是在美国制造的先进半导体。”Graves说：“从我们的家庭和汽车到拯救生命的军事和医疗技术，半导体为一切提供动力。ASML 是全球私营企业联盟的重要成员，他们选择美国作为他们的半导体基地，对此我们深表感谢。我们需要通过将《两党创新法案》提交总统办公室签署来巩固这一势头，因为它对我们的经济和国家安全至关重要。”

Wennink表示：“半导体行业的增长十分迅速。为了满足未来几年的预期需求，ASML 正在投资基础设施和人员。我们位于康涅狄格州威尔顿的办事处是这项投资的一个很好的例子，也是美国对ASML成功至关重要的地点之一。”

据悉，商务部副部长Graves访问了ASML，作为其欧洲之行的一部分。以加强跨大西洋合作，并就供应链救济、新兴技术和出口管制等关键问题与公共和私营部门合作伙伴进行接触。

6 月 3 日消息，据韩联社消息，三星电子副会长李在镕将于下周前往荷兰，预计将采购荷兰半导体设备制造商阿斯麦(ASML)的先进芯片制造设备。

三星此前宣布将在 5 年内向半导体和生物制药领域投资 450 万亿韩元(约合 3550 亿美元)，将尽早进口 EUV 光刻机，“使三星在制造最先进的微芯片方面具有优势”。

李在镕重新执掌三星集团后，一直在公司关注的关键领域进行努力。对于该公司来说，目前最重要的挑战也许是三星电子急需世界上最先进芯片制造机器。

ASML 总部位于荷兰，是全球唯一一家能够制造 EUV 极紫外光刻机的制造商。这些光刻机对于超精细半导体加工领域至关重要。

随着先进制程芯片制造业竞争的升温，英特尔、三星、台积电对 ASML 设备的需求也水涨船高，甚至该公司的订单已经积压数年。因此，ASML 先给谁交付光刻机可能成了优势所在。

据报道，李在镕将于 6 月 7 日至 18 日访问欧洲。在访问期间，他将在荷兰与 ASML 高管会面，以确保 ASML 的 EUV 设备交付。在三星寻求扩大其位于京畿道平泽的半导体工厂之际，获得这种设备对三星来说至关重要。

最近这两年，国人对芯片和光刻机投入了较高的关注，对应的企业就是中芯国际和上海微电子，这两家企业分别是芯片制造龙头和国产光刻机龙头，不过中芯国际是上市公司，相对而言财务和管理方面比较透明，但是上海微电子目前还是私营企业，不属于公众公司，因此显得尤为神秘，外界也予以颇多猜测。

最近，国有控制下的芯片制造厂商积塔半导体对外招标采购芯片生产设备，其中就包括光刻机等设备，积塔半导体主要生产的是功率芯片，这一类芯片对于光刻机制程工艺的要求并不高，过去，一般90nm-350nm就可以满足需要。

但是中标结果显示，3台光刻机都被ASML拿下，没有一家国产厂商中标，积塔半导体采购的还是KrF和i-Line等系列光源的光刻机，这些设备的制程工艺均被上海微电子所突破，但意外的是，上海微电子落选了。

唯一欣慰的是，在工艺检测设备方面，上海微电子中标了4台产品，算是弥补了部分的尴尬。

那么这也显示出，过去对于制程工艺要求不高的功率半导体，目前也在积极提高制程，根据上海的多个功率半导体厂商采购的光刻机显示，普遍已经可以支持45nm芯片的生产。

不得不说，现在芯片正在成为一种刚需，人们的生活已经进入电子化时代，芯片作为支持电子化的基础配件，是一种必需品。

而随着对性能和功耗的极致追求，芯片的工艺在快速演化，目前已经迭代到3纳米，像台积电、英特尔等，则在开始研发2纳米、1.8纳米和1.4纳米工艺。

诚然，这种先进的制造工艺，离不开EUV光刻机的支持，我们知道，目前来看，可商用的EUV光刻机，只有ASML可以提供。

在EUV光刻机上市之初，台积电等芯片代工大厂一直在抢单，希望可以更快得到更多的该设备。

或许正是因此，ASML对自己的EUV光刻机颇以为傲，一直在国际上宣传EUV光刻机难以有第二家供应商。

目前的EUV光刻机可以支持到3纳米工艺，如果要生产更先进工艺的芯片，虽然也可以支持，但是生产效率要降低，这需要用到多重曝光。

因此ASML正在研发高NA EUV光刻机，可以保证实现一次曝光就可以生产2纳米及以下工艺的芯片。

所以高NA EUV光刻机，似乎是EUV光刻机的下一代产品，各大芯片代工厂应该是抢购的节奏，但是却并非如此。

“即便把光刻机的图纸公布出来，中国也做不出来。”曾说出上述言论的ASML公司，前段时间突然向中国“低头”了。

前段时间，ASML总裁Peter向中国交了底，Peter说：除受到《瓦森纳协定》限制的EUV光刻机，无法向中国供应外，其他光刻设备均可以和中国企业进行交易。

为何曾经傲慢的ASML公司，会在此时态度“大变天”呢?

一、ASML厉害在哪

光刻机被誉为”工业皇冠上的明珠“，是芯片制造前道工序的关键设备。光刻机的工作原理类似老式照片的冲印技术，主要是将掩膜版上的图形曝光到硅片上。而这个技术也是芯片制造最复杂、工艺要求最高的步骤，其成本占到芯片制造总成本的35%以上。

目前，市场上能够量产商用光刻机的厂商仅有三家：ASML、尼康和佳能。而在全球中高端光刻市场，荷兰的ASML几乎处于垄断地位，尤其是7nm及以下工艺的极深紫外线EUV光刻机，目前仅有ASML一家能够生产。但由于《瓦森纳协定》的限制，EUV光刻机一直无法出口到中国。

《瓦森纳协议》是在1996年7月由美国牵头，同时还有41个国家参与制定的协议，主要内容主要是禁售包括民用的先进材料、电子器件、计算机、传感与激光、电信与信息安全、船舶与海事设备等9大类，而ASML的EUV光刻机就是在2015年被协议纳入的。