JSRCEO：即便中国获得相关化学成分资料，也造不出高端光刻胶

5月23日消息，据英国《金融时报》报道，近日日本光刻胶巨头JSR的首席执行官埃里克•约翰逊（Eric Johnson）在接受采访时表示，尽管中国大陆在努力推动芯片的自给自足，但中国半导体产业必要的基础设施不足，比如很难掌握基于极紫外（EUV）光刻的复杂芯片制造技术，发展先进制程的芯片制造技术将非常困难。

约翰逊指出，“我认为中国也非常想发展自己的EUV（极紫外光刻）能力和相关的生态系统（比如EUV光刻胶）。但坦率地说，我认为他们要做到这一点非常困难。”

实际上，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）CEO温彼得也在今年1月表达过和约翰逊类似的观点，认为“中国不太可能复制出顶尖的EUV光刻机”。但他当时补充称，永远别那么绝对，中国的物理定律和全世界是一样的，“他们肯定会尝试”。

另外，对于中国在光刻胶领域的追赶，以及希望在高端光刻胶技术上的突破，约翰逊认为，即便中国获得相关化学成分的确切资料，但在纯度、精度及制造上都非常困难，且中国也没有供应链支持。但中国当局积极投资成熟的芯片技术，也是不容忽视的一部分，“人们还没充分意识到，中国有多少机会可以不依赖这些先进制程。”