*文/黑桃与长剑
半导体上市潮中，有人欢喜有人忧。前有英集芯上市首日破发大跌9.70%，后有拓荆科技一路高歌猛进，一天大涨28.41%。后者今天刚刚登陆科创板，发行价仅71.88元，但二级市场的热情让它的股价一度飚到104元/股，截至收盘，拓荆科技股价有所回调，报92.30元/股，市值116.74亿元。
拓荆科技是什么来头？实际上，这家名不见经传的公司早已成为国产薄膜沉积设备领域的龙头企业。据该企业公布的信息，它是国内唯一一家产业化应用的集成电路等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、次常压化学气相沉积（SACVD）设备厂商，曾经连续三次被中国半导体协会评为国内半导体五强企业。
薄膜沉积是晶圆制造过程中的一个重要环节，通过这种工艺，晶圆上能够生长出各种导电薄膜层、介质薄膜层以及绝缘薄膜层，为后续工艺打下基础。根据工作原理的不同，薄膜沉积工艺可以分为物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）和原子层沉积（ALD）三类。
正因薄膜沉积的重要地位，拓荆科技从事的薄膜沉积设备才被列入半导体三大主设备之一（另外两大设备分别为光刻机、蚀刻机），而它的客户也不在少数。目前，其产品主要供应中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内晶圆厂。
近年来，我国整个薄膜沉积设备领域需求量相当大，但98%的供应都需要依赖进口设备，处于被“卡脖子”的状态。在ALD、CVD设备供应领域，东京电子、泛林半导体、先域等外企长期占据压倒性地位。拓荆科技之所以受到二级市场的青睐，投资者对于国产薄膜沉积设备的期待是不可忽视的一点。
另一方面，近年来芯片荒导致的芯片制造设备市场繁荣，也是二级市场看好拓荆科技的关键因素。此前有业内人士在接受《日经亚洲评论》采访时表示，用于将电路蚀刻到硅片上的二手光刻机价格翻了“整整一番”。二手芯片制造设备供应商SurplusGLOBAL Japan高级副总裁熊泽淑二（Shuji Kumazawa）也提到，一旦商品上市，买家就会立马出现。
SurplusGLOBAL中国区总经理陈真在接受媒体采访时表示，目前部分国产设备在性能上已经赶上了国外原厂设备，而且交期方面相对较好，二手设备售价也较低。如果国外供应链持续紧张，国产设备或许可以借此机会弯道超车，疾步赶上。
拓荆科技的财务数据可以证实市场的火热。从招股书来看，这家公司从2018年到2021年的营收分别为7064.40万元、2.51亿元、4.36亿元和7.58亿元；呈现连年增长趋势。
当然，在看到拓荆科技发展前景的同时，我们也要注意它的一些缺点，例如研发开支与收入的不平衡现象。从2018年到2021年1-3月，拓荆科技归母净利合计亏损为1.54亿元，扣非归母净利合计亏损达3.37亿元，在这期间，公司收到的政府补助高达3.30亿元。
除此之外，拓荆科技还存在员工频繁离职问题。2018-2020年，拓荆科技的离职员工分别为39人、32人、50人，员工离职率分别为12.30%、10.49%、13.66%，占比较高。
另一个有意思的要点在于，拓荆科技科研人员共189人，占员工总数的44.06%，核心技术人员共有七名，包括董事长吕光泉、董事姜谦等公司高层人员，其中有六名均为外国国籍。如何增加国内高级研发人员数量，或许是拓荆科技未来要向投资者解答的问题之一。
*图片来自Yandex
