吸引友达、东京威力投资 超临界流体技术是什麽？

中山大学团队开发超临界流体低温缺陷钝化技术，并成立新创公司奈盾科技，有望助攻半导体新技术突破良率瓶颈，获得友达与东京威力(TEL)投资，奈盾并成为东京威力在台湾唯一投资的新创公司。

中山大学物理系讲座教授张鼎张表示，超临界流体是一种物质状态，一般固体吸热变液体，液体加热变气体，气体再加压超过临界温度及临界压力，物质将兼具液体与气体的特性，就是超临界流体。

一般而言，超临界流体拥有较好的渗透性和较强的溶解力，广泛应用于萃取技术，将其作为萃取剂，可将原料中某些成分析出，常见的包括有萃取咖啡因，制造保养品、营养补充品与清洁剂等。

在半导体尺寸微缩的趋势下，长完膜、蚀刻后，可能会有很多缺陷，旧有技术无法提供好的解决方案，超临界流体既像气体又像液体，具高反应性、高渗透性、低表面张力等三大优势，运用在电子元件上可有效消除缺陷，让元件性能与可靠度大幅提升。

张鼎张进一步解释，好的3C产品有赖其电子元件性能与可靠度，然而元件产制过程会产生劣化效应，不同材料叠加界面处易产生悬键，即内部缺陷，如Micro LED侧壁容易有很多缺陷，影响发光效率，若能妥善消除缺陷，就能让效率提升。

为了钝化或是消除缺陷，常见手法是透过高温活化，但元件加入金属后，温度最高仅能承受400度，传统钝化的高温动辄800度，有材料使用上的局限，也没办法做到深入的修复。

张鼎张表示，超临界流体低温缺陷钝化技术比较特别，一般高温的制程只要200～300度之间就可以，透过这项技术，可修补半导体材料内的断键，让不好的元件回到正常特性，改善漏电及导通电流，满足旧有制程无法满足的需求，且对鳍式场效晶体管(FinFET)、LED、光电元件甚至对第三代半导体都有效果。

张鼎张说，因为超临界状态的物理现象很特殊，充满许多未知值得研究，因此已在这个领域投入15年的时间，同时也挖掘出工程应用的潜力，目前测试很多公司提供的样本都有效果，因而发现技术产业化的曙光，遂将学术研发成果成立新创公司，并获得大厂投资。

责任编辑：陈至娴