荷兰半导体设备业龙头艾司摩尔（ASML Holding NV）生产的极紫外光（EUV）微影设备，对于芯片代工大厂的先进制程至关重要。韩国政府宣布，ASML计划赴韩国打造EUV再制（remanufacturing）厂及训练中心。
BusinessKorea、韩国经济日报14日报道，韩国产业通商资源部（The Ministry of Trade, Industry and Energy，MOTIE）13日宣布，ASML未来4年将在韩国投资2,400亿韩元（2.1亿美元），于京畿道华城市打造EUV微影设备聚落，其中包括一座再制厂房、一家训练中心。
ASML是全球唯一EUV微影设备供应商，是5纳米先进制程的关键设备。MOTIE及京畿道政府将针对ASML的授权、扩张当地业务事宜提供协助。上述设施预计2025年底前落成，未来将在韩国聘用超过300名专才。
报道称，ASML位于韩国的再制厂房，用途是升级韩国当地运行中的EUV微影设备。
ASML一年只能生产30台EUV微影设备。据闻，台积电已取得50台EUV设备，三星仅10台。
半导体蚀刻机台制造商科林研发公司（Lam Research Corp.）也将扩大投资韩国。报引导述业界消息指出，科林已将韩国的生产目标提高一倍，正在寻找地点创建新厂以便扩展产能。
韩媒etnews 4月12日引述业界消息报道，想要打造半导体生产线，一定要设法取得前端制程的关键设备。应材、科林、东京威力科创（TEL）及ASML是全球前四大半导体设备企业，整合市场占有率高达60-70%。问题是，半导体设备厂每年只能生产一定数量的机台，交货进程早已非常紧凑。
