重磅！格科微成功引入ASML光刻机设备

3月27日消息，据格科微格科微(SH:688728)官方微信公众号显示，格科半导体迎来了建厂进展的重要时刻，整套生产线中的最关键设备——ASML先进ArF光刻机成功搬入。

这次从ASML引进的ArF光刻机是浸入式DUV光刻机，也是目前使用最广泛的光刻机，采用ArF光源，DUV光刻机光源波长突破193nm，缩短为134nm，NA值为1.35，最高可实现7nm制程节点。

图片源自格科微官微（下同）

浸入技术是指让镜头和硅片之间的空间浸泡于液体之中，由于液体的折射率大于1，使得激光的实际波长会大幅度缩小。目前主流采用的纯净水的折射率为1.44，所以ArF加浸入技术实际等效的波长193nm/1.44=134nm。

据了解，在严格遵守防疫政策并做好疫情防控措施的情况下，格科微于3月24日上午顺利举办ASML先进ArF光刻机搬入仪式。格科半导体SVP李朝勇、各部门总监、光刻团队及厂务团队出席仪式。

格科微表示，ArF光刻机的成功引入，是格科微“12英寸CIS集成电路特色工艺研发与产业化项目”建设的关键节点。依托自有工厂即格科半导体的先进制程，格科微将进一步加快先进CIS工艺和高阶专利像素的研发速度，并在自有工厂实现批量生产验证，从而极大缩短高端产品从研发到大量供应市场的周期。