三星资源挹注FST 目标2023年量产EUV光罩护膜

在三星电子(Samsung Electronics)的资金挹注下，韩国FST等业者，传采用新一代材料开发极紫外光(EUV)光罩护膜(pellicle)，2023年如顺利商用化，将有望提升EUV制程效率，降低业者生产成本。

综合韩媒Ddaily等报导，韩国FST计划从2023年起，量产EUV光罩护膜，这是一种超薄膜，用以保护光罩。一般而言，曝光制程是指将光罩置於在晶圆片上方形成图案，在此过程中，护膜将可最大程度地减少污染。光罩重复多次使用，有助於降低曝光过程的不良率。

随着曝光制程从氟化氩(ArF)转进EUV，相关材料也开始跟着出现变化，因为EUV是较敏感光源，使用EUV曝光时，薄膜透光率将是一大关键。韩媒称目前EUV光罩要价不斐，如果没有专用护膜，使用1~2次就得丢弃，相较之下护膜仅要价几万美元。过去一段时间以来，EUV护膜并未获得积极利用，主因在於开发本身相对困难，且尚未有业者建立量产体系。先前传ASML与Terrordyne共同开发，三井化学部分量产，但产量其实并不大。

韩国不少业者获三星支持，开始投入此领域，FST、S&S Tech等业者，传目前正面临EUV护膜商用化挑战。此外，DNF先前传出获三星支持建厂，生产半导体薄膜制程前驱物(precursor)。S&S Tech传开发透光率达90%的EUV制程护膜，与荷兰EUV设备商ASML交涉，展开品质认证，如果进展顺利，不久将於京畿道龙仁量产。

据悉，FST与DNF的合作方式，将由DNF负责EUV薄膜相关材料，FST负责最终成品开发，两家业者计划2023年起出货。相关人士透露，韩国目前已开发出透光率相当高的产品，开发进度也达9成，如果相关业者开始生产EUV关键材料，料将有助於三星、SK海力士(SK Hynix)等业者降低生产成本。

责任编辑：张兴民