【专利解密】深天马积极布局液晶显示器领域；联电涉美光商业机密案迎来新进展；三利谱“一种偏光片及显示装置”专利取得专利证书；

1.【专利解密】深天马积极布局液晶显示器领域

2.联电涉美光商业机密案迎来新进展！二审轻判罚金2000万元新台币

3.三利谱“一种偏光片及显示装置”专利取得专利证书

4.广和通：公司近日获3项实用新型专利证书

5.国家知识产权局：持续严格规范专利申请行为

【嘉勤点评】深天马的液晶显示器专利，通过第二增光膜周边区域的高集光性，能够提高周边区域的出射光束亮度，进而改善液晶显示设备显示时周边区域的亮度较中心区域的亮度低的问题，提高液晶显示设备的显示均匀性。

集微网消息，深天马是液晶显示器及液晶显示模块的专业设计企业，丰富的制造经验、先进的设备、精良的工艺、高效的管理使深天马成为国内规模最大的液晶显示器及模块制造商之一。

为了提升液晶显示屏的色域，可以增设量子点色彩增强膜，切割成与液晶显示设备相适应的尺寸。然而在切割过程中，可能会破坏量子点色彩增强膜边缘的量子点，导致背光源发出的蓝色光从量子点色彩增强膜四周透过，从而在显示时出现四周存在蓝边的现象。为了解决这一问题，现有技术通过在量子点色彩增强膜周边涂覆吸光材料，吸收一部分蓝光，然而这会导致液晶显示设备显示时周边区域的亮度较中心区域的亮度较低。

为此，深天马于2016年11月18日申请了一项名为“一种液晶背光模组、液晶显示设备”的发明专利（申请号: 201611024827.1），申请人为厦门天马微电子有限公司。

图1 液晶显示设备结构示意图

图1为本发明提出的液晶显示设备结构示意图，主要包括依次层叠设置的反射膜20、导光板21、量子点色彩增强膜22、第一增光膜23以及第二增光膜24组成的液晶背光模组，还包括偏光片25和液晶显示面板26。其中，量子点色彩增强膜的周边发蓝区域涂覆有吸光介质221，为了达到更好的吸光效果，该吸光介质为黑色油墨。

第二增光膜包括多个棱镜结构，位于第二增光膜周边区域的第一棱镜结构和位于第二增光膜中心区域的第二棱镜结构；第一棱镜结构的集光性大于第二棱镜的集光性。如此，当光束亮度较弱的光线入射到第二增光膜的周边区域，光束亮度较强的光线入射到第二增光膜的中心区域时，周边区域和中心区域的出射光的光束亮度差值会小于其对应的入射光的光束亮度差值。

涂覆在QDEF周边区域的吸光介质会吸收一部分透过QDEF的光，吸光介质会吸收一部分从QDEF周边泄漏的蓝光，如此该吸光介质会改善QDEF液晶显示设备周边发蓝的问题。

为了验证吸光介质的吸光性，还做了如下实验：采用TracePro进行光路仿真，在有吸光介质及无吸光介质对应的第二增光膜上方分别放置一个光束亮度探测器，得到光束分布图分别如图2所示。

图2 有吸光介质及无吸光介质对应的第二增光膜上方光束分布图

图中每一个点代表一束光束。针对本发明提供的液晶背光模组，由于吸光介质吸光导致从QDEF周边射出的光束亮度IQDEF周边小于从其中心射出的光束亮度IQDEF中心，从而导致液晶显示设备周边区域比中心区域亮度暗的问题。为了解决该问题，本发明的液晶背光模组中，位于其第二增光膜周边区域的第一棱镜结构的集光性大于周边区域的第二棱镜结构的集光性。

简而言之，深天马的液晶显示器专利，通过第二增光膜周边区域的高集光性，能够提高周边区域的出射光束亮度，进而改善液晶显示设备显示时周边区域的亮度较中心区域的亮度低的问题，提高液晶显示设备的显示均匀性。

深天马是生产液晶显示器的专业公司，现已成为国内具备竞争优势的液晶面板龙头企业。未来深天马将继续创新，密切关注行业最新技术，不断加强前瞻性技术研究，积极响应市场趋势。

2.联电涉美光商业机密案迎来新进展！二审轻判罚金2000万元新台币

集微网消息，2017年，美光指控曾在该公司工作过的三名员工在加入联电时窃走了其技术，台中地检署对相关员工及联电提起诉讼。2020年6月，台中地院判处联电罚金1亿元新台币，现该案又迎来了新进展。

据台媒《钜亨网》报道，二审中国台湾知识产权及商业法院今 (27) 日撤销了台中地院的原判决，改轻判联电罚金2000万元新台币，缓刑2年。另外，改判联电员工戎乐天无罪及公诉不受理、何建廷及王永铭各判 1 年、6 月徒刑，两人均缓刑。

联电表示，深切期望检方尊重上诉审法院判决，及联电与美光于 2021 年 11 月达成全球和解，让本案得以画下句号。

联电强调，在各领域提供具有竞争力产品及服务之际，将持续落实并优化有关营业秘密保护与防免的政策与措施，并将持续尽全力于发展晶圆专工本业，以期在激烈竞争的全球半导体市场上立足，并为中国台湾科技与经济发展作出积极贡献。

（校对/Yuki）

3.三利谱“一种偏光片及显示装置”专利取得专利证书

集微网消息，深圳市三利谱光电科技股份有限公司（以下简称“三利谱”）发布公告称于近日收到中华人民共和国国家知识产权局颁发的1项专利证书。

该专利名称为“一种偏光片及显示装置”，专利号为ZL 2021 2 1962848.4。知识产权局专利摘要显示，本实用新型属于偏光片技术领域，公开一种偏光片及显示装置，偏光片包括偏振层、第一保护层、第二保护层、第一粘着层、第二粘着层、磨砂层、第三保护层和离型膜层，第三保护层、磨砂层、第一粘着层、第一保护层、偏振层、第二保护层、第二粘着层和离型膜层从上至下依次叠合；显示装置包括上述的偏光片。其中磨砂层提高了偏光片的雾度值，能够分散从偏光片上面和下面入射的光线，改变光的传播方向，消除摩尔纹，进而提高了显示装置的显示画质。

三利谱表示，上述专利的取得，对公司的生产经营情况不构成重大影响，但有利于进一步确立公司的自主知识产权优势，并对公司的技术创新、产品创新、市场及品牌影响力提升等方面产生积极的影响，从而提升公司的核心竞争力。

（校对/Yuki）

4.广和通：公司近日获3项实用新型专利证书

集微网消息 广和通日前发布公告称，公司于近日收到中华人民共和国国家知识产权局颁发的3项实用新型专利证书，专利名称分别为：“天线射频电路、通信模组及终端设备”、“母座装置、公座装置、板对板连接器及开发板”、“射频测试箱”。

其中天线射频电路、通信模组及终端设备实用新型专利公开一种天线射频电路、通信模组及终端设备，可以根据干扰信号的实际情况接入适应的滤波电路，有利于降低插损；

母座装置、公座装置、板对板连接器及开发板实用新型专利涉及连接器技术领域，其母座装置通过对引脚的分配，使反接时电源信号引脚被短接到地，可实现保护板上器件的目的；

射频测试箱实用新型专利涉及一种射频测试箱，涉及射频测试技术领域，有利于提高射频测试的准确性，不使用时，避免灰尘和杂质进入，具有较高的实用性。

另外，广和通在公告中指出上述专利是公司自主研发的成果，是公司的主要技术，已应用于公司产品及产品研发测试中。该等专利的取得不会对公司目前经营产生重大影响，但有利于公司充分发挥知识产权优势，形成持续创新机制，提升公司的核心竞争力。

（校对/GY）

5.国家知识产权局：持续严格规范专利申请行为

据国家知识产权局网站消息，近日，国家知识产权局近日印发《关于持续严格规范专利申请行为的通知》，通知称，为进一步解决工作堵点痛点，建立健全长效机制，推动形成上下联动、协同治理的工作合力，消除不以保护创新为目的的非正常专利申请行为，规范专利申请秩序，切实推动我国从知识产权引进大国向创造大国转变，从追求数量向提高质量转变，就有关事项通知如下：

一、持续健全完善信息沟通机制。国家知识产权局定期通报各地方非正常专利申请情况、撤回情况、申诉处理情况、高质量专利申请占比和非正常专利申请占比、发明专利结案中授权比例和授权后仅缴纳首年年费失效比例等信息。对非正常专利申请问题突出的，视情节在国家知识产权局政府网站及相关媒体公开，予以通报。支持营商环境创新试点城市研究建立非正常专利申请快速处置联动机制，畅通信息交换渠道，实现非正常专利申请行为的第一时间通报、第一时间处理、第一时间反馈。各省级知识产权管理部门要定期汇总本辖区通报案件、重点问题线索、主动核查和举报线索的处理情况、资助政策制定调整情况等，及时报送国家知识产权局。各地方知识产权管理部门应主动向科技、教育、卫生等部门通报非正常专利申请有关情况。

二、加强专利申请行为精准管理。健全高效精准的非正常专利申请排查机制，推动建立专利申请精准管理制度。各省级知识产权管理部门明确纳入精准管理名单的条件、程序和退出机制，严格核实相关单位和个人的研发情况和创新能力，报送国家知识产权局审核后公示。国家知识产权局将对列入名单的申请人减少非正常专利申请排查频次。列入名单的申请人出现非正常专利申请的，国家知识产权局将其移出名单，并由各地方知识产权管理部门依法依规从严从重处置。

三、健全主动核查和举报机制。各地方知识产权管理部门要持续加大对非正常专利申请的主动核查力度。各知识产权保护中心和快速维权中心、专利代办处要在专利受理、预审、企业备案等环节建立工作机制，主动排查非正常专利申请行为。各地方知识产权管理部门要设立专线，强化专线作用，鼓励社会公众举报非正常专利申请行为以及违规的指标设置和资助奖励政策等。

四、加强分级分类治理。各地方知识产权管理部门对本辖区内提交非正常专利申请的单位和个人，在相关项目申报、资助奖励、预审服务、优先审查等环节予以重点关注，并区别不同情况开展分类整治，对申请人无异议的，督促主动撤回；对申请人有异议的，指导按时提交申诉材料，跟踪申诉处理情况；对拒不撤回又不提交申诉材料和充分书面证据的，由各地方知识产权管理部门根据情节依法从严处理，取消享受本地相关政策优惠的资格，取消申报国家知识产权示范和优势企业、知识产权保护中心备案企业等资格，以及中国专利奖申报、参评或获奖资格。

五、加强对重点违规行为的治理。各地方知识产权管理部门要聚焦异常大量申请、冒用他人信息申请、屡次申请非正常专利、倒买倒卖非正常专利申请以及无研发投入、无研发人员、无生产经营的“三无”空壳公司申请专利等涉嫌违法违规的重点问题线索，持续攻坚克难，加大处置力度，深挖问题根源，加强综合整治。

六、强化部门协同治理。要协同和支持科技、教育、工业信息化等部门进一步改进完善与专利工作相关评价标准，加强评审、认定工作管理中的专利质量评价，有效利用专利权评价报告，突出质量导向。要协同市场监管、科技、财政等部门，逐步减少对专利授权的各类财政性资助，每年至少减少25个百分点，直至在2025年以前全部取消。不得直接将专利申请、授权数量作为享受奖励或资格资质评定政策的主要条件。坚决杜绝重复资助、超额资助、清零奖励、变相资助、大户奖励等情况。各地方知识产权管理部门要协同市场监管、公安、信用监管等部门，核查非正常专利申请领域涉嫌违法违规的重点问题线索，依法从严处置。

七、加强专利申请领域信用监管。推动修订专利法实施细则等相关法律法规和规章，为依法有效打击非正常申请行为、加强知识产权信用监管提供有力法治保障。落实《市场监督管理严重违法失信名单管理办法》及有关政策文件，将提交非正常专利和从事违法专利代理行为，依法依规列为失信行为，予以管理及公示。

八、强化代理机构行为监管。深化专项整治行动，不断加大对代理非正常专利申请和无资质专利代理的打击力度。加强区域间非正常专利申请代理行为监管信息共享，提高跨区域监管效能。加强与各有关监管部门的协同配合，发挥综合监管优势，加大对从事非正常专利申请代理等违法行为的监管力度，提高监管效率。加强对各地方代理监管工作的绩效考核，压实地方监管责任，促进地方加强监管力量配备，强化工作条件保障。

各地方知识产权管理部门要进一步统一思想认识，强化责任意识，充分发挥省市纵向联动和部门横向协同作用，建立长效治理机制，推动工作持续深入落地落实；要积极宣传工作进展和成效、解读政策措施、曝光典型案例、推广有益经验，引导社会公众自觉抵制非正常专利申请行为，依法、合理、充分地保护和运用知识产权。