日立子公司推出用于EUV 3nm和5nm工艺的电子束检测系统

昨日，知名器件制造商——日立科学仪器（Hitachi High-Tech Corporation）宣布开发其电子束区域（Electron Beam Area）检测系统。该公司正逐步将EUV应用于5nm节点器件的量产和3nm节点器件的开发。

使用EUV光刻技术生产的印刷电路板，尺寸约为ArF光刻技术生产的电路板尺寸的一半。因此，能够可靠、准确、可重复地检测和测量这些较小模型的系统，对于管理生产线和产量就显得至关重要。保证先进的EUV掩模的质量，以减少电路尺寸的变化和EUV光刻过程中随机发生的微观随机缺陷，也变得至关重要。

因此，随着检测目标数量的增加，对高通量、高分辨率检测和测量的需求也在增加。日立科学仪器正在响应这种对高速、敏感的检测和测量的需求增长，并推出了GS1000系统，以满足半导体器件量产市场的需求。

关键参数：

GS1000是一种先进的常规电子束检测系统。它是高性能电子光学系统和高速、大容量数据处理系统的融合，为将EUV光刻技术引入半导体器件批量生产时所面临的挑战提供了解决方案。

本系统具有以下主要特点：

1. 能进行高速、大面积电子束检测的新技术

通过使用先进的电子光学系统设计开发的光学像差校正器，晶圆可以被电子束成像，而在电子束运动的大范围内分辨率不会下降，从而实现在大范围内的高精度检测和测量。该系统结合了快速变化的视野，利用光束位移和灵敏的检测技术，实现了高精度、大面积扫描，扫描速度比传统的CD-SEM工具快100倍。

2. 高速、大容量图像处理系统

专用高速图像处理系统提供超高速数据传输，实现高吞吐量，通过高速4K成像和图像传输服务器的并行处理实现实时D2DB测量。

它还引入了D2AI算法检测，利用人工智能技术处理由越来越多的点产生的大量数据，以满足快速检测工艺变化和微观缺陷快速检测的需求。

日立科学仪器

日立科学仪器（Hitachi High-Tech Corporation）是日立集团旗下日立高新技术有限公司在北京设立的全资子公司。其主要产品包括：扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）、聚焦离子束（FIB）、原子力显微镜（AFM）等表面科学仪器和前处理设备，以及各类液相色谱(LC)、荧光分光光度计（FL)、紫外分光光度计（UV）、原子吸收分光光度计（AAS）、电化学等分析仪器。