华芯半导体的VCSEL生产线选择OIPT等离子刻蚀设备

位于中国泰州的人脸识别VCSEL研发和制造厂商华芯半导体选择牛津仪器等离子技术公司（OIPT）的Cobra等离子蚀刻设备。

据麦姆斯咨询报道，牛津仪器等离子技术公司（Oxford Instruments Plasma Technology，简称OIPT）近日宣布，华芯半导体（Sino－semic）已经选择了其Cobra等离子蚀刻设备，用于VCSEL产品的批量生产。

华芯半导体员工全部是中国本土培养的优秀人才，其中VCSEL产品研发团队有30多人，具有博士学位或中高级职称的骨干成员超过10人，在器件结构设计、外延生长、芯片制程、封装测试、可靠性分析等方面都有行业内顶尖的领军人物。团队核心成员主要毕业于中国科学院，有多人先后承担973、863等国家重大项目以及自然科学基金等国家级科研项目。

2017年中旬，华芯半导体全自主开发的VCSEL开始提供客户测试；同年年底，850nm 10G VCSEL芯片开始批量出货，并且进行940nm VCSEL项目立项。今年，940nm VCSEL芯片已经进入批量出货阶段。

华芯半导体副总经理李军表示：“无与伦比的工艺能力和响应积极的本地支持是我们选择OIPT等离子刻蚀设备的原因，这对于VCSEL的批量生产非常重要。”

Cobra工艺解决方案旨在支持前沿器件研发和应用，如激光器、射频、电源、高端LED等。

“基于VCSEL的消费类电子设备正在进入一个令人兴奋的增长阶段，” OIPT董事总经理Richard Pollard表示，“我们很高兴为中国先进的激光器生产制造商（如华芯半导体）提供我们的VCSEL工艺解决方案！”