台积电发布5nm增强版N4P制程：性能提升11%

Source：台积电

作为台积电5纳米家族的第三个主要强化版本，N4P的效能较原先的N5增快11%，也较N4增快6%。相较于N5，N4P的功耗效率提升22%，电晶体密度增加6%。同时，N4P借由减少光罩层数来降低制程复杂程度，且改善晶片的生产周期。

N4P制程工艺将在Open Innovation Platform合作伙伴帮助下加快产品开发周期，首批基于N4P制程工艺的产品预计在2022年下半年流片。

台积电业务开发资深副总经理张晓强博士表示：“N4P的推出强化了台积公司的先进逻辑半导体技术组合，其中的每项技术皆具备独特的效能、功耗效率、以及成本优势。

经过优化的N4P可提供高效能运算（HPC）与行动装置应用一个更强化且先进的技术平台。借由N5、N4、N3、以及这些先进技术的所有强化版本，我们的客户将拥有最大的灵活性与最佳技术组合选择，来支援其产品。”