Entegris发布新型VaporSorb®过滤器，帮助提高半导体制程的良率

BILLERICA, Massachusetts, — 2014 年 7 月 9 日—Entegris Inc.(NASDAQ-GS:ENTG)是一家为先进制造环境提供良率提升材料和解决方案的领先企业,公司今日发布了VaporSorb系列气体分子污染 (AMC) 过滤器的衍生产品。VaporSorb是领先的过滤器品牌，在半导体制造的关键步骤中主要用于洁净室环境和生产机台。VaporSorb过滤器已发展为捕获气体有机物、碱基类和强酸的一体式过滤器。新型VaporSorb TRK 添加了独特材料，是首款不仅能够捕获三大核心污染物，而且还能捕获第四类污染物(定义为弱酸的一组污染物)的过滤器。

此款新型过滤器是专为光刻涂胶机台/显影机台而设计的以之前的“三合一”技术为基础的“四合一”过滤器，避免了多层过滤器的复杂处理方式。此外，此款过滤器保留了VaporSorb业界领先的使用寿命优势，从而能够降低机台停机时间和使用成本。

Entegris AMC 过滤服务业务高级产品营销经理 Joe Wildgoose表示：“解决当今的光刻法产量问题可从过滤一种潜在污染物(即弱酸)开始。VaporSorb TRK 不仅是三大常见污染物问题的一体化解决方案，而且还能解决有关弱酸气体污染物的最新问题。”

弱酸包括乙酸和甲酸(醋酸盐;CH3COO-和甲酸盐;HCOO-)以及亚硝酸(亚硝酸盐;NO2-)等。这些污染物会导致光刻法工艺缺陷和良率问题，因为它们无法被传统的 AMC 过滤器滤除。此外，在使用传统过滤器时，有机污染物可能会形成弱酸污染物。

VaporSorb过滤器采用一种独特的混合材料，可捕获气体分子污染物。该混合材料可通过添加一种新型吸附剂进行改进，从而打造出全新的四合一过滤器。现场的最终用户测试已证实，该过滤器能够捕获会导致晶圆或设备缺陷的所有有机物、碱基类、强酸和弱酸。

Entegris®、Entegris Rings Design®和VaporSorb®是Entegris, Inc. 在美国及其他国家的商标或注册商标。