S&S Tech | 率先成功开发出穿透率90% EUV防护膜

CINNO Research产业资讯，Blank mask生产企业S&S Tech成功开发出了穿透率达90%的半导体EUV制程用防护膜(pellicle)，这是韩国首次。目前，只有荷兰ASML公司成功开发出了穿透率为90%的EUV pellicle。如果完成质量测试后正式量产，预计将对S&S Tech的销售扩大做出巨大贡献。
根据韩媒thelec报道， S&S Tech最近完成了全尺寸EUV pellicle的开发。据悉，该公司为了进行EUV pellicle的质量测试，正在与ASML进行协商。
pellicle是在半导体曝光制程中保护photo mask免受污染的超薄膜形态的消耗性材料。最近，随着想要在存储半导体超细工艺中引进EUV设备的企业增加， EUV专用pellicle的需求也呈增加趋势。
与现有的ArF曝光设备不同，EUV设备的结构是光反射到镜子后，再到晶片，因此光源损失很大。要想使光源损失降到最低，必须使用穿透率超过90%的EUV用pellicle。虽然也可以选择不使用pellicle，但EUV光罩是价值数亿韩元的高价配件，因此若要减少灰尘对光罩的损伤，就必须使用pellicle。
据悉，S&S Tech此次开发的全尺寸EUV pellicle的穿透率为89~90%。保守推算，穿透率至少达到85%。耐久性依据测试条件有所不同，但约为1万至2万小时。
这是韩国首次开发出穿透率超过90%的EUV pellicle。在韩国企业中，S&S Tech和FST两家企业一直在开发EUV pellicle。FST目前也致力于开发穿透率达到90%的EUV pellicle。在海外，ASML和TER携手合作，于去年上半年开发出了穿透率为82~83%的MK3.0，今年上半年又成功开发出了穿透率为90.6%的MK4.0。MK4.0的生产由日本三井化学负责，将向三星电子供应。
S&S Tech目前正在与ASML进行质量测试相关协议。如果通过垄断全球EUV设备的ASML测试，就等于获得“质量认证”。量产也将随之进行。如果测试顺利完成，预计将在京畿道龙仁引进生产设备，并开始量产。
如果具备量产设施，公司的销售也将会急剧增加。因为只有极少数企业进入了EUV pellicle市场，而且海内外Foundry企业正在全面引进EUV制程。三星电子计划从2023年末开始向EUV制程大量投入pellicle，SK海力士、美光等也在加快引进EUV制程的步伐。 

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