ASML对EUV光刻机前景表示乐观，最先进光刻机很快将入华

中国集成电路制造年会近日邀请到了光刻机霸主ASML(阿斯麦)中国区总裁沈波参加，他出面解答了一些媒体关心的话题。

尽管UMC(联电)和Globalfoundries(格芯)先后宣布放弃7nm制程及更先进工艺的研发，但ASML依然对EUV光刻机的前景表示乐观。

此前有消息指出，中芯国际(SMIC)今年已向ASML订购了一台EUV光刻机，预计明年交付，用于7nm节点。

同时，传统的沉浸式光刻机方面，沈波称，今年下半年ASML已开始出货家族最先进的NXT:2000i，很快会在中国市场上也见到。

另外，媒体早先有报道称，长江存储、上海华虹半导体分别向ASML订购了193纳米浸没式光刻机和193纳米双工件台沉浸式光刻机NXT:1980Di，分别用于存储芯片制造、晶圆代工。

据悉，ASML今年第一季度和第二季度的财报显示，大陆市场的销售收入占比达到了20%左右，已与美国持平，且超过了台湾地区。

ASML今年的EUV光刻机产能将达到20台，明后两年将逐步提升到40台。