我国首台12英寸半导体设备进入韩国市场

      新华网上海6月11日电（记者季明）位于上海浦东张江高科技园区的盛美半导体设备（上海）有限公司12英寸45纳米半导体单片清洗设备，11日正式启运运往韩国知名存储器厂商海力士，这也是国内首台具有自主知识产权的高端12英寸半导体设备进入韩国市场。

      盛美半导体设备（上海）有限公司首席执行官王晖博士介绍说，这台设备作为量产设备，装备了8个独立的清洗腔，并运用全球独有的、具有自主知识产权的SAPS兆声波（空间交变相移技术），最大产出率可达到每小时400片，为45纳米和32纳米节点硅片清洗提供了高效、零损伤的颗粒及污染去除方案。

      当今半导体清洗技术中的最大难题是对机械损伤和去除效率的控制。随着半导体芯片体积的不断缩小，影响硅片良率的粒子也越来越小，颗粒越小则越难清洗；同时，45纳米以下芯片的门电极与电容结构越来越脆弱，在清洗中避免损伤芯片微结构的难度也在不断加大。