极紫外光有望成为芯片生产商新宠

    你可能已经知道用深紫外光可以蚀刻硅芯片，但可能你不知道的是，普通紫外线现在已经达到了其极限。幸运的是，一种新型光——极紫外光即将被芯片制造商使用，这将会让你的处理器跟上摩尔定律的步伐。
    目前，芯片蚀刻由波长193纳米的深紫外光完成，但随着芯片体积的几何形缩水，更多内容需要挤放到芯片上，这让生产商撞上了南墙。
    现在出现了极紫外光：这种拥有高能量的紫外线波长在124~10纳米之间，如此短的波长可以保证更高的精确度，这作为芯片制造的新方法在理论上已经讨论了好几年，但总是被一个主要问题阻碍：要生成足够强的EUV光相当困难。如果没有足够的强度，蚀刻芯片要么不可能完成，要么需要特别长时间。
    但现在，光刻技术开发商阿斯麦（ASML）公司宣布了一个极紫外光商业样机，该样机今年可用80瓦特的功率产生光线，有望在2014年用到250瓦特。该功率下可每小时蚀刻125个芯片，这还达不到英特尔的要求，英特尔最近表示需要极紫外光生产1000瓦特来满足其生产需要。但这已经足够让ASML相信到2015年极紫外光能够真正应用。(译者：高菲)