南大光电ArF光刻胶通过验收！

7月29日,南大光电官方发布公告:“关于公司承担的国家科技重大专项(02 专项)”已通过专家组验收。其中包括极大规模集成电路制造装备及成熟工艺、先进 7 纳米光刻胶产品开发与光刻胶供给链产业化。

据南大光电披露,公司收到极大规模集成电路制造装备及成套工艺实践管理办公室下发的项目综合绩效评价结论书,公司作为牵头单位,承担的“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”之光刻胶项目通过了专家组验收。

据悉,光刻胶项目总体目标是开发高端集成电路制造用 ArF 干式与浸没式光刻胶成套工艺技术,形成规模化生产能力;构建与集成电路行业国际先进水平接轨的技术和管理人才团队等等。项目分为三个子课题,南大光电控股子公司宁波南大光电材料有限公司(以下简称宁波南大光电)承接了其中的“ArF 光刻胶产品的开发和产业化”课题。

专家组评定后认为,通过项目的实施,宁波南大光电掌握了 ArF 干式和浸没式系列光刻胶产品的原材料制备、配胶、分析检测、应用验证等关键技术,在知识产权和人才培养等方面取得重要进展。形成了由 51 人组成的 ArF 光刻胶研发与生产管理团队,建成了 ArF 光刻胶产品的质量控制平台、年产 5 吨的干式 ArF 光刻胶及年产 20 吨的浸没式 ArF 光刻胶产业化生产线。实现 ArF 光刻胶产品销售,完成了任务合同书规定的主要考核指标。

南大光电表示：ArF 光刻胶材料是集成电路制造领域的关键材料,可以用于 90nm～14nm 甚至 7nm 技术节点的集成电路制造工艺,主要应用于高端芯片制造。（如逻辑芯片、存储芯片、AI芯片、5G芯片和云计算芯片等）。