近期，杨澜访谈录节目《逐风者》专访了“硅谷传奇”――中微半导体董事长兼总经理尹志尧。
尹志尧1944年出生于北京，18岁考入中科大化学物理系，24岁被分配至兰州炼油厂，36岁获北大化学系硕士学位，后赴美国加州洛杉矶分校攻读物理化学博士。随后尹志尧分别在硅谷英特尔、泛林集团、应用材料公司等全球知名半导体公司任职16年，是全球数几代等离子体刻蚀技术及设备的主要发明人和工业化应用的推动者之一。
2004年，当时已经60岁的尹志尧放弃了美国的百万年薪，带领15人的小团队，冲破美国政府的层层审查（所有人都承诺不把美国的技术带回中国，包括所有工艺配方、设计图纸，一切从零开始），空手回国创办了中微半导体。
经过十多年的发展，目前中微半导体已经成为了全球五大半导体刻蚀机供应商之一。至今，全世界超过一半的刻蚀设备都有他参与领导和开发的身影。
现年77岁的尹志尧，在多年的技术及产品的开发中，也获得了过400多项各国专利，被评价为“硅谷最有成就的华人之一”。
在访谈中，尹志尧介绍了半导体工艺流程与刻蚀机的作用。
他指出，芯片制造流程包括切割晶圆、涂膜、光刻、刻蚀、掺杂、测试等等。其中，光刻技术、刻蚀技术、薄膜沉积为主要生产技术。其中光刻技术就是一种将图纸上的芯片电路设计通过类似照片冲印的技术印制到硅片上的技术，而刻蚀技术主要用于在芯片上进行微观雕刻。
每个线条和深孔的加工精度，如同在人的头发丝直径的几千万分之一甚至上万分之一的面积上，进行有50~60层大楼的“微观世界”的建设。
尹志尧将建设其中的每一层，比作剪窗花。剪窗花需要一张红纸，然后用笔来描图，再用剪刀将不需要的部分剪掉，就做出来这一层的结构了。
光刻机、薄膜机、等离子体刻蚀机正是做类似的事情。薄膜机铺一层材料，就如剪窗花要有一张红纸，然后光刻机在上面画各种花纹，等离子体刻蚀机将不要的东西刻掉。三步缺一不可。其中最重要的是光刻机，如果光刻机画不出花纹来，等离子体刻蚀机就不知道怎么去刻。
同时尹志尧还谈到了国内半导体产业现状，并指出在芯片制造领域，大陆与国际先进水平间的差距在三代左右，大概5~10年。
尹志尧强调：“集成电路产业需要全世界各国和很多公司上下协同努力才能做出来。做一颗5nm的芯片需要1000多个步骤，需要170多种不同的设备。”“所需需要促进各个国家和各个公司之间的合作，才能做出来的。”“没有任何一个国家，包括美国在内，可以靠自己一国之力，把集成电路从头做到尾。”
对于国内半导体产业的发展，尹志尧指出，由于华人对美国集成电路发展做出巨大贡献，他相信中国集成电路将来必然能达到世界最先进水平，但同样也存在很多问题，特别是必须认真对待人才培养、不对称竞争、资本过热等问题。
同时尹志尧还在访谈中提到了几年前关于“中微能够做5nm芯片”的误读，强调中微确实是在5nm技术上有突破，但是也仅限于刻蚀机，是给做芯片的公司提供设备，中微的也并不是做芯片的。尹志尧强调，不要把什么事情都提升到政治程度去夸大宣传，要实事求是。
最后，对于未来5nm以下技术的研发，尹志尧表示，目前整个集成电路的路线图认为做到2nm就差不多了，可是目前已经在谈1nm了，真的很难说什么是最后的极限。最后的极限应该就是分子水平和原子水平。等离子刻蚀机是在分子原子水平上去加工，而分子原子水平大概就是1nm之内，所以等离子刻蚀机还是可以往下做。目前我们的等离子刻蚀机已经可以做到一两个原子这样的准确度。
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